Công nghệ CVD Công nghệ tạo lớp phủ từ pha khí hay còn gọi là CVD Chamical Vapour Diposition đực áp dụng trong nhiều lĩnh vực để tạo lớp phủ kim loại và ceramic lên nhiều chi tiết bằng v
Trang 1Công nghệ CVD Công nghệ tạo lớp phủ từ pha khí hay còn gọi là CVD (Chamical Vapour
Diposition) đực áp dụng trong nhiều lĩnh vực để tạo lớp phủ kim loại và
ceramic lên nhiều chi tiết bằng vật liệu khác nhau.Trong số các áp dụng quan trọng của công nghệ CVD phải kể đến các lớp phủ chịu mài mòn:TiC,TiN,
….các lớp phủ chống ăn mòn:Cr,Al,… các lớp phủ dung cho ngành điện
tử :SiO2,Si3N4,…
Phương pháp bay hơi lắng đọng hóa học (CVD) là tạo ra một lớp màng
mỏng nhờ liên kết dưới dạng khuếch tán, là kết quả của phản ứng giữa các pha khí với bề mặt được nung nóng
Sản phẩm cuối cùng được tạo ra là một lớp màng phủ cứng và chịu mài mòn
có liên kết rất mạnh với vật liệu nền CVD nhiều khi cúng được gọi là
phương pháp phủ nóng, bởi các quá trình được thực hiện ở nhiệt độ 19000F
Trang 2Nguyên lý của CVD:
Để tạo lớp phảu bằng công nghệ CVD,nguyên tố cần phủ đực chuyển thành các lớp chất thể khí ,được hoàn nguyên trở lại nhớ các tác động vật lý,hóa học xaayr ra ở vùng lân cận bề mặt chi tiết cần phủ nhờ đó lớp phủ được hình thành