DANH MỤC CÁC KÝ HIỆU Ton te Thời gian phát xung µs Toff Thời gian ngừng phát xung µs Wi Khối lượng phôi ban đầu mmg Wf Khối lượng phôi sau gia công mmg Ra Nhấp nhô bề mặt gia công µm t T
Trang 1TRƯỜNG ĐẠI HỌC CÔNG NGHIỆP HÀ NỘI
NGUYỄN VĂN ĐỨC
NGHIÊN CỨU XÁC ĐỊNH CHẾ ĐỘ CÔNG NGHỆ TỐI ƯU KHI GIA CÔNG XUNG TIA LỬA ĐIỆN BẰNG ĐIỆN CỰC ĐỒNG
LUẬN ÁN TIẾN SỸ KỸ THUẬT
Hà Nội - 2020
Trang 2TRƯỜNG ĐẠI HỌC CÔNG NGHIỆP HÀ NỘI
NGUYỄN VĂN ĐỨC
NGHIÊN CỨU XÁC ĐỊNH CHẾ ĐỘ CÔNG NGHỆ TỐI ƯU KHI GIA CÔNG XUNG TIA LỬA ĐIỆN BẰNG ĐIỆN CỰC ĐỒNG
CHUYÊN NGÀNH: KỸ THUẬT CƠ KHÍ
MÃ SỐ: 9.52.01.03
LUẬN ÁN TIẾN SỸ KỸ THUẬT
NGƯỜI HƯỚNG DẪN KHOA HỌC:
1 PGS.TS PHẠM VĂN BỔNG
2 PGS.TS TRẦN XUÂN VIỆT
Hà Nội - 2020
Trang 3LỜI CẢM ƠN
Tôi xin gửi lời cảm ơn chân thành và biết ơn sâu sắc tới thầy hướng dẫn khoa học PGS.TS Phạm Văn Bổng và PGS.TS Trần Xuân Việt đã hướng dẫn và hỗ trợ tận tình tôi trong suốt thời gian học tập và nghiên cứu
Tôi xin trân trọng cảm ơn Đảng ủy, Ban Giám hiệu, Phòng Đào tạo, Khoa Cơ khí
và, Bộ môn Công nghệ, Trung tâm Sau Đại học trường Đại học Công nghiệp Hà Nội đã tạo mọi điều kiện giúp đỡ tôi trong suốt quá trình học tập, nghiên cứu và hoàn thành Luận án
Tôi xin chân thành cảm ơn các thầy ở Trung tâm Đào tạo Kỹ thuật HaUI - Foxconn
đã giúp đỡ và hỗ trợ tôi hoàn thành thí nghiệm Xin chân thành cảm ơn Viện Khoa học vật liệu, Trung tâm Đánh giá Hư hỏng Vật liệu đã giúp đỡ tôi đo kiểm các mẫu thí nghiệm
Tôi xin cám ơn TS Nguyễn Hữu Phấn đã có góp ý và hỗ trợ tôi trong thời gian làm luận án
Tôi xin được bày tỏ lòng biết ơn sâu sắc tới gia đình, những người luôn bên cạnh tôi, đã động viên, chia sẻ, giúp đỡ tôi trong suốt quá trình học tập, nghiên cứu để hoàn thành Luận án
Hà Nội, năm 2020
Nguyễn Văn Đức
Trang 4LỜI CAM ĐOAN
Tôi cam đoan những nội dung trình bày trong luận án là công trình nghiên cứu của tôi Ngoài các nội dung tham khảo đã được trích dẫn còn các số liệu, kết quả nêu trong luận án là trung thực và chưa từng được ai công bố trong bất kỳ công trình nào khác
Hà Nội, năm 2020
Nguyễn Văn Đức
Trang 5MỤC LỤC
TRANG
LỜI CẢM ƠN i
LỜI CAM ĐOAN ii
MỤC LỤC iii
DANH MỤC CÁC KÝ HIỆU vii
DANH MỤC CÁC TỪ VIẾT TẮT viii
DANH SÁCH CÁC BẢNG ix
DANH SÁCH CÁC HÌNH VẼ VÀ ĐỒ THỊ xi
PHẦN MỞ ĐẦU 1
1 Tính cấp thiết của đề tài 1
2 Nội dung nghiên cứu 1
3 Phương pháp nghiên cứu 2
4 Đối tượng nghiên cứu 2
5 Giới hạn nghiên cứu 3
6 Mục đích nghiên cứu 3
7 Ý nghĩa khoa học và thực tiễn của đề tài 3
a Ý nghĩa khoa học 3
b Ý nghĩa thực tiễn 3
CHƯƠNG 1: TỔNG QUAN VỀ GIA CÔNG TIA LỬA ĐIỆN 4
1.1 Lịch sử phát triển EDM 4
1.2 Đặc điểm gia công tia lửa điện 6
1.3 Ứng dụng gia công tia lửa điện 6
1.4 Một số khái niệm trong gia công tia lửa điện 6
1.4.1 Chu kỳ gia công 6
1.4.2 Điện áp và cường độ dòng điện gia công 7
1.4.3 Thời gian phóng tia lửa điện Ton 9
1.4.4 Thời gian ngừng phóng tia lửa điện Toff 9
1.4.5 Sự ion hóa 9
1.4.6 Sự trễ của ion hóa 9
1.4.7 Vật liệu điện cực 10
1.4.8 Phoi EDM 11
1.4.9 Loại mạch điện của máy xung 12
Trang 61.5 Tình hình nghiên cứu trong và ngoài nước về EDM 13
1.5.1 Tình hình nghiên cứu ngoài nước 13
1.5.2 Tình hình nghiên cứu trong nước 16
Kết luận chương 1 18
CHƯƠNG 2: CƠ SỞ LÝ THUYẾT 19
2.1 Cơ sở lý thuyết gia công tia lửa điện 19
2.1.1 Bản chất vật lý của quá trình phóng tia lửa điện 19
2.1.2 Cơ chế tách vật liệu 22
2.1.3 Đặc tính về điện của sự phóng tia lửa điện 23
2.1.4 Lượng hớt vật liệu 25
2.1.5 Lớp trắng sau gia công 26
2.1.6 Mòn điện cực 27
2.1.7 Chất điện môi 29
2.2 Cơ sở lý thuyết tối ưu hóa 29
2.2.1 Khái niệm về tối ưu hóa 29
2.2.2 Các dạng bài toán tối ưu hóa 30
2.2.2.1 Tối ưu hóa tĩnh 30
2.2.2.2 Tối ưu hóa động 30
2.2.3 Phương pháp tối ưu hóa đơn mục tiêu theo Taguchi 31
2.2.3.1 Tỷ số S/N 31
2.2.3.2 Giá trị hệ số Fisher (F) 31
2.2.3.3 Phân tích phương sai 32
2.2.4 Tối ưu hóa đa mục tiêu bằng AHP - Deng’s 32
2.2.4.1 Phương pháp AHP 32
2.2.4.2 Tối ưu hóa đa mục tiêu bằng phương pháp Deng’s 34
Kết luận chương 2 37
CHƯƠNG 3: TRANG THIẾT BỊ VÀ THỰC NGHIỆM XÁC ĐỊNH ẢNH HƯỞNG CỦA MỘT SỐ THÔNG SỐ CÔNG NGHỆ ĐẾN CÁC CHỈ TIÊU CHẤT LƯỢNG VÀ ĐỘ MÒN ĐIỆN CỰC 39
3.1 Trang thiết bị phục vụ thực nghiệm 39
3.1.1 Máy Xung điện 39
3.1.2 Vật liệu và phôi thí nghiệm 40
3.1.3 Thiết bị đo 41
3.1.3.1 Cân điện tử AJ 203 41
Trang 73.1.3.2 Máy đo độ nhám 42
3.1.3.3 Máy đo độ cứng tế vi HV 42
3.1.3.4 Kính hiển vi quang học Leica - DM750 43
3.2 Thí nghiệm khảo sát ảnh hưởng của thông số công nghệ đến chất lượng 43
3.2.1 Thí nghiệm khảo sát 1: Khảo sát ảnh hưởng của thông số công nghệ đến nhám bề mặt của chi tiết gia công 43
3.2.2 Thí nghiệm khảo sát 2: Khảo sát ảnh hưởng của độ nhám điện cực đến độ nhám bề mặt gia công 50
3.2.3 Thí nghiệm khảo sát 3: Khảo sát ảnh hưởng của thông số công nghệ đến năng suất bóc tách vật liệu 53
3.3 Thiết kế thí nghiệm tối ưu hóa 59
3.3.1 Lựa chọn phương pháp thiết kế thí nghiệm 59
3.3.2 Thiết kế thí nghiệm bằng phương pháp Taguchi 60
3.3.3 Lựa chọn các thông số 61
3.3.3.1 Lựa chọn các thông số đầu vào 61
3.3.3.2 Các chỉ tiêu đánh giá đầu ra Y 62
3.3.4 Xây dựng quy hoạch thực nghiệm 62
3.4 Tiến hành thí nghiệm 64
3.4.1 Thí nghiệm trên máy xung 64
3.4.2 Đo kiểm các chỉ tiêu đầu ra 65
3.5 Xử lý số liệu thí nghiệm 67
3.5.1 Kiểm tra độ tin cậy của số liệu thí nghiệm 67
3.5.2 Đặc trưng của các chỉ tiêu đầu ra 72
Kết luận chương 3 72
CHƯƠNG 4: TỐI ƯU HÓA ĐƠN VÀ ĐA MỤC TIÊU XÁC ĐỊNH CHẾ ĐỘ CÔNG NGHỆ XUNG TỐI ƯU 73
4.1 Tối ưu hóa đơn mục tiêu theo phương pháp Taguchi 73
4.1.1 Độ cứng tế vi lớp bề mặt (HV) 73
4.1.1.1 Ảnh hưởng của các thông số đến HV 73
4.1.1.2 Tối ưu hóa HV 74
4.1.2 Chiều dày lớp trắng (WLT) 76
4.1.2.1 Ảnh hưởng của các thông số đến WLT 76
4.1.2.2 Tối ưu hóa WLT 77
4.1.3 Nhám bề mặt (Ra) 79
4.1.3.1 Ảnh hưởng của các thông số đến Ra 79
Trang 84.1.3.2 Tối ưu hóa Ra 80
4.1.4 Mòn điện cực (TWR) 82
4.1.4.1 Ảnh hưởng của các thông số đến TWR 82
4.1.4.2 Tối ưu hóa TWR 84
4.1.5 Năng suất bóc tách vật liệu (MRR) 85
4.1.5.1 Ảnh hưởng của các thông số đến MRR 85
4.1.5.2 Tối ưu hóa MRR 87
4.2 Ứng dụng tối ưu hóa đa mục tiêu bằng AHP - Deng’s 89
4.2.1 Tối ưu hóa đa mục tiêu bằng AHP - Deng’s 89
4.2.2 Phân tích ANOVA 95
a Phân tích ANOVA 95
b Ảnh hưởng của các thông số công nghệ đến Pi 97
4.2.3 Tối ưu hóa đa mục tiêu 100
4.2.4 Kết quả đạt được của phương pháp tối ưu hóa đa mục tiêu 101
Kết luận chương 4 101
KẾT LUẬN CHUNG VÀ HƯỚNG NGHIÊN CỨU TIẾP THEO 103
TÀI LIỆU THAM KHẢO 106
CÁC CÔNG TRÌNH KHOA HỌC CÔNG BỐ CỦA TÁC GIẢ 115
PHỤ LỤC 116
Trang 9DANH MỤC CÁC KÝ HIỆU
Ton (te) Thời gian phát xung (µs)
Toff Thời gian ngừng phát xung (µs)
Wi Khối lượng phôi ban đầu (mmg)
Wf Khối lượng phôi sau gia công (mmg)
Ra Nhấp nhô bề mặt gia công (µm)
t Thời gian thực hiện 1 thí nghiệm (phút)
Khối lượng riêng của phôi (g/cm3)
Ti Khối lượng điện cực ban đầu (mmg)
Tf Khối lượng điện cực sau gia công (mmg)
d Đường kính điện cực (mm)
Độ nhớt của dung dịch điện môi (m2/s)
i Hằng số điện môi của dung dịch điện môi
0 Hằng số điện môi chân không
Kích thước khe hở phóng điện (µm)
hp Chiều cao nhấp nhô (µm)
S Diện tích bề mặt điện cực (mm2)
Wc Năng lượng của điện dung (J)g/cm3 Thứ nguyên của khối lượng riêngV/m Thứ nguyên của cường độ điện trường
V Thứ nguyên của điện áp
A Thứ nguyên của cường độ dòng điện
s Thứ nguyên của thời gian
Ue Điện áp phóng tia lửa điện (V)
Ie Dòng phóng tia lửa điện (A)
Pi Chỉ số hiệu suất tổng thể C* Chỉ số tối ưu
Trang 10DANH MỤC CÁC TỪ VIẾT TẮT
EDM Electrical dischagre machining Gia công bằng tia lửa điện
MRR Material removal rate Năng suất bóc tách vật liệu
RSM Response Surface Methodology Phương pháp phản hồi bề mặt ANN Artificial Neural Network Mạng nơ ron nhân tạo
GRA Grey relational analysis Phân tích quan hệ xám
PSO Particle swarm optimization Tối ưu hóa bầy đàn
PSI Preference selection index Chỉ số lựa chọn ưu tiên
AHP Analytic Hierarchy Process Quy trình phân cấp phân tích Deng’s Deng’s similary based method Phương pháp dựa trên sự tương tự PCA Principal component analysis Phân tích thành phần chính
S/N Signal to Noise ratio Tỷ số tín hiệu/nhiễu
EDX Energy-dispersive X-ray Phổ tán xạ năng lượng tia X
SEM Scanning electron microscopy Kính hiển vi điện tử
ANOVA Analysis of variance Phân tích phương sai
PVD Physical Vapor Deposition Phủ bay hơi vật lý
CVD Chemical Vapor Deposition Phủ bay hơi hóa học
CNC Computer Numerical Control Điều khiển số bằng máy tính
WLT White layer thickness Chiều dày lớp trắng
MSD Medium squared deviation Sai lệch bình phương trung bình PIS Positive ideal solution Giải pháp lý tưởng tích cực
NIS Negative ideal solution Giải pháp lý tưởng tiêu cực
Trang 11DANH SÁCH CÁC BẢNG
TRANG
Bảng 2.1 Mòn điện cực với điện cực có góc 90 độ [73] 28
Bảng 2.2 Thang so sánh cặp của Saaty [52] 33
Bảng 2.3 Số lượng so sánh [52] 33
Bảng 2.4 Chỉ số ngẫu nhiên (RCI) [59] 34
Bảng 3.1 Thành phần hóa học thép SKD11 41
Bảng 3.2 Các thông số đầu vào thí nghiệm khảo sát 1 44
Bảng 3.3 Bảng các yếu tố đầu vào thí nghiệm khảo sát 1 và kết quả đo độ nhám 44
Bảng 3.4 Hệ số hồi quy ước tính cho Ra 45
Bảng 3.5 Hệ số hồi quy ước tính cho Ra (sau khi loại bỏ P > 0.05) 46
Bảng 3.6 ANOVA cho Ra 46
Bảng 3.7 Hệ số hồi quy ước tính cho Ra 46
Bảng 3.8 Thí nghiệm xác nhận và mô hình tham số tối ưu 50
Bảng 3.9 Kết quả thí nghiệm khảo sát 2 51
Bảng 3.10 Tập hợp các giá trị tính toán kết quả thực nghiệm khảo sát 2 51
Bảng 3.11 Các thông số đầu vào và mức của các thông số thí nghiệm 3 53
Bảng 3.12 Các thông số đầu vào, các mức và kết quả của các thí nghiệm 3 53
Bảng 3.13 Hệ số hồi quy ước tính cho MRR 54
Bảng 3.14 ANOVA cho MRR 54
Bảng 3.15 Hệ số hồi quy ước tính cho lượng bóc tách vật liệu MRR 54
Bảng 3.16 Thí nghiệm xác nhận và mô hình tham số tối ưu 57
Bảng 3.17 Các thông số đầu vào và mức của các thông số 62
Bảng 3.18 Ma trận thí nghiệm 63
Bảng 3.19 Các thông số trong ma trận thí nghiệm 64
Bảng 3.20 Kết quả thí nghiệm 65
Bảng 3.21 Thông số đầu ra và các đặc trưng 72
Bảng 4.1 ANOVA giá trị HV 73
Bảng 4.2 Mức độ ảnh hưởng của các thông số đầu vào đến HV 73
Bảng 4.3 ANOVA trị số tỷ số S/N của HV 74
Bảng 4.4 Mức độ ảnh hưởng của các thông số vào đến tỷ số S/N của HV 75
Trang 12Bảng 4.5 ANOVA giá trị WLT 76
Bảng 4.6 Mức độ ảnh hưởng của các thông số đầu vào đến WLT 76
Bảng 4.7 ANOVA trị số tỷ số S/N của WLT 77
Bảng 4.8 Mức độ ảnh hưởng của các thông số vào đến tỷ số S/N của WLT 78
Bảng 4.9 ANOVA giá trị Ra 79
Bảng 4.10 Mức độ ảnh hưởng của các thông số đầu vào đến Ra 79
Bảng 4.11 ANOVA trị số tỷ số S/N của Ra 81
Bảng 4.12 Mức độ ảnh hưởng của các thông số đầu vào đến tỷ số S/N của Ra 81
Bảng 4.13 ANOVA giá trị TWR 82
Bảng 4.14 Mức độ ảnh hưởng của các thông số đầu vào đến TWR 83
Bảng 4.15 ANOVA trị số tỷ số S/N của TWR 84
Bảng 4.16 Mức độ ảnh hưởng của các thông số vào đến tỷ số S/N của TWR 84
Bảng 4.17 ANOVA giá trị MRR 86
Bảng 4.18 Mức độ ảnh hưởng của các thông số đầu vào đến MRR 86
Bảng 4.19 ANOVA trị số tỷ số S/N của MRR 87
Bảng 4.20 Mức độ ảnh hưởng các thông số đầu vào đến tỷ số S/N của MRR 88
Bảng 4.21 Dữ liệu chuẩn hóa 90
Bảng 4.22 Ma trận so sánh theo cặp 91
Bảng 4.23 Ma trận chuẩn hóa các cặp so sánh và tính toán các trọng số ưu tiên 91
Bảng 4.24 Phân tích tính đồng nhất 91
Bảng 4.25 Ma trận hiệu suất có trọng số yij 92
Bảng 4.26 Chỉ tiêu chất lượng và đánh giá 92
Bảng 4.27 Giải pháp lý tưởng tích cực và giải pháp lý tưởng tiêu cực 93
Bảng 4.28 Mức độ xung đột giữa các lựa chọn thay thế 93
Bảng 4.29 Mức độ tương tự và hiệu suất tổng thể cho các lựa chọn thay thế 94
Bảng 4.30 Phân tích ANOVA cho C* 96
Bảng 4.31 Bảng phản hồi cho giá trị trung bình của C* 97
Bảng 4.32 Phân tích ANOVA cho S/N của Pi 100
Bảng 4.33 So sánh kết quả tính toán với kết quả bằng thực nghiệm 101
Trang 13DANH SÁCH CÁC HÌNH VẼ VÀ ĐỒ THỊ
TRANG Hình 1.1 Sơ đồ nguyên lý gia công tia lửa điện Lazarenko [73] 4
Hình 1.2 Sơ đồ máy gia công tia lửa điện, điện cực dây [73] 5
Hình 1.3 Vùng điện áp xuất hiện tia lửa điện [73] 7
Hình 1.4 Điện áp và dòng điện khi xuất hiện tia lửa điện [73] 8
Hình 1.5 Dòng điện và điện áp trong chu kỳ xung [73] 8
Hình 1.6 Quá trình tạo thành phoi EDM [73] 11
Hình 1.7 Dòng chảy khi điện cực rút lên [73] 12
Hình 2.1 Sơ đồ nguyên lý gia công tia lửa điện [73] 19
Hình 2.2 Các pha trong một chu kỳ xung điện [75] 20
Hình 2.3 Đồ thị dòng điện và điện áp trong một chu kỳ xung [1] 21
Hình 2.4 Diễn biến của một quá trình phóng tia lửa điện [1] 23
Hình 2.5 Các miệng hố lõm được hình thành liên tiếp [18] 25
Hình 2.6 Các lớp bề mặt sau khi gia công [73] 26
Hình 2.7 Mòn điện cực [73] 28
Hình 3.1 Máy xung điện CNC 3 trục CM323C 40
Hình 3.2 Điện cực và chi tiết xung 41
Hình 3.3 Cân điện tử AJ 203 41
Hình 3.4 Máy đo độ nhám SV - 2100 42
Hình 3.5 Máy đo độ cứng HV IndentaMet 42
Hình 3.6 Kính hiển vi quang học Leica - DM750 43
Hình 3.7 Biểu đồ phần dư cho Ra 47
Hình 3.8 Biểu đồ cột phần dư cho Ra 47
Hình 3.9 Phần dư được chuẩn hóa với giá trị phù hợp 47
Hình 3.10 Ảnh hưởng của các yếu tố đến Ra 48
Hình 3.11 Ảnh hưởng tương tác của các yếu tố đến Ra 48
Hình 3.12 Mặt phản hồi Ra với I và Ton 49
Hình 3.13 2D ảnh hưởng I và Ton lên Ra 49
Hình 3.14 Mặt phản hồi Ra với U và Ton 49
Hình 3.15 2D ảnh hưởng U và Ton lên Ra 49
Hình 3.16 Biểu đồ số dư cho MRR 55
Hình 3.17 Ảnh hưởng của các yếu tố đến MRR 56
Trang 14Hình 3.18 Ảnh hưởng tương tác của các yếu tố đến MRR 56
Hình 3.19 Mặt phản hồi MRR với U và I 57
Hình 3.20 2D ảnh hưởng U và I lên MRR 57
Hình 3.21 Mặt phản hồi MRR với I và Ton 57
Hình 3.22 2D ảnh hưởng I và Ton lên MRR 57
Hình 3.23 Mặt phản hồi MRR với U và Ton 57
Hình 3.24 2D ảnh hưởng U và Ton lên MRR 57
Hình 3.25 Sơ đồ thí nghiệm trong EDM 61
Hình 3.26 Ảnh chụp vết đâm đo độ cứng tế vi lớp trắng HV 66
Hình 3.27 Ảnh chụp mẫu đo kim tương đo chiều dày lớp trắng 66
Hình 3.28 Đồ thị số dư cho tỷ lệ S/N của MRR 67
Hình 3.29 Đồ thị số dư trung bình của MRR 68
Hình 3.30 Đồ thị số dư cho tỷ lệ S/N của Ra 68
Hình 3.31 Đồ thị số dư trung bình của Ra 69
Hình 3.32 Đồ thị số dư cho tỷ lệ S/N của HV 69
Hình 3.33 Đồ thị số dư trung bình của HV 70
Hình 3.34 Đồ thị số dư cho tỷ lệ S/N của WLT 70
Hình 3.35 Đồ thị số dư trung bình của WLT 71
Hình 3.36 Đồ thị số dư cho tỷ lệ S/N của TWR 71
Hình 3.37 Đồ thị số dư trung bình của TWR 72
Hình 4.1 Ảnh hưởng của các thông số đầu vào đến HV 74
Hình 4.2 Ảnh hưởng của các thông số vào đến tỷ số S/N của HV 75
Hình 4.3 Ảnh hưởng của các thông số đầu vào đến WLT 77
Hình 4.4 Ảnh hưởng của các thông số đầu vào đến tỷ số S/N của WLT 78
Hình 4.5 Ảnh hưởng của các thông số đầu vào đến Ra 80
Hình 4.6 Ảnh hưởng của các thông số đầu vào đến tỷ số S/N của Ra 81
Hình 4.7 Ảnh hưởng của các thông số đầu vào đến TWR 83
Hình 4.8 Ảnh hưởng của các thông số vào đến tỷ số S/N của TWR 85
Hình 4.9 Ảnh hưởng của các thông số đầu vào đến MRR 86
Hình 4.10 Ảnh hưởng của các thông số đầu vào đến tỷ số S/N của MRR 88
Hình 4.11 Phương pháp tương tự của Deng’s 95
Hình 4.12 Phân tích kết quả của Pi bằng xác suất thống kê 96
Hình 4.13 Tỷ lệ % ảnh hưởng của các thông số công nghệ đến Pi 96
Hình 4.14 Ảnh hưởng của các thông số công nghệ đến Pi 99
Trang 15Hình 4.15 Ảnh hưởng của I đếnđặc tính chất lượng 99
Hình 4.16 Ảnh hưởng của U đến đặc tính chất lượng 99
Hình 4.17 Ảnh hưởng của Ton đến đặc tính chất lượng 99
Hình 4.18 Ảnh hưởng của Toff đến đặc tính chất lượng 99
Hình 4.19 Phân tích về S/N của chỉ tiêu tối ưu 100
Trang 16PHẦN MỞ ĐẦU
1 Tính cấp thiết của đề tài
Ngày nay gia công Xung điện (Electrical Discharge Machining - EDM) là một trong những công nghệ quan trọng và phổ biến trên thế giới [1] Phương pháp EDM là giải pháp gia công các vật liệu cứng và siêu cứng các chi tiết trong tua bin máy phát điện, động cơ máy bay, dụng cụ cắt, khuôn mẫu, đặc biệt là các bề mặt có hình dáng phức tạp mà các phương pháp gia công cắt gọt truyền thống như Tiện, Phay, Mài… rất khó thực hiện hoặc không thể thực hiện được [73] EDM sử dụng năng lượng nhiệt để gia công các bộ phận máy với vật liệu dẫn điện, phương pháp này không có lực cắt và trong quá trình gia công không có rung động Tuy vậy EDM còn tồn tại những nhược điểm như năng suất gia công không cao [3, 4], không gia công được vật liệu không dẫn điện, để lại trên bề mặt chi tiết gia công lớp trắng có cấu trúc, độ cứng, ứng suất dư khác lớp kim loại nền Ở Việt Nam hiện nay khu vực sản xuất cũng được trang bị khá nhiều máy gia công EDM Tuy nhiên giá thành khá đắt và việc chuyển giao công nghệ không đầy đủ nên việc khai thác thiết bị chưa hiệu quả và triệt để Đã có nhiều công trình nghiên cứu ở nước ngoài và trong nước về EDM, nhưng do tính phức tạp của nó mà cho đến nay vẫn còn nhiều câu hỏi liên quan đến lĩnh vực này cần phải giải đáp
Các nghiên cứu về EDM ngoài nước đã có nhiều công trình khoa học [50 - 72] nghiên cứu sử dụng phương pháp Taguchi để thiết kế thực nghiệm, kết hợp với các phương pháp khác để tối ưu hóa, sử dụng các loại vật liệu điện cực và vật liệu chi tiết gia công khác nhau, nhằm nâng cao năng suất và chất lượng bề mặt chi tiết gia công sử dụng phương pháp gia công EDM Tuy nhiên, chưa có nhiều nghiên cứu tối ưu hóa các thông
số đầu vào trên máy xung điện để đạt năng suất và chất lượng bề mặt chi tiết gia công,
sử dụng điện cực đồng nguyên chất (copper), gia công vật liệu SKD11 Trên cơ sở đó,
đề tài khoa học “Nghiên cứu xác định chế độ công nghệ tối ưu khi gia công xung tia
lửa điện bằng điện cực đồng” là cấp thiết
2 Nội dung nghiên cứu
- Nghiên cứu tổng quan về gia công tia lửa điện
- Cơ sở lý thuyết
Trang 17- Thực nghiệm nghiên cứu ảnh hưởng của các thông số đầu vào là cường độ dòng điện; điện áp khe hở phóng điện; thời gian phóng điện và thời gian ngừng phóng điện đến năng suất và chất lượng bề mặt thép làm khuôn được gia công bằng phương pháp Xung tia lửa điện EDM, với các chỉ tiêu đánh giá là độ cứng tế vi lớp trắng; chiều dày lớp trắng; mòn điện cực; nhám bề mặt và năng suất bóc tách vật liệu của chi tiết gia công
- Tối ưu hóa đơn mục tiêu và đa mục tiêu các thông số công nghệ đầu vào với các chỉ tiêu đầu ra là năng suất và chất lượng bề mặt chi tiết gia công
3 Phương pháp nghiên cứu
Sử dụng phương pháp nghiên cứu lý thuyết kết hợp với thực nghiệm:
- Nghiên cứu lý thuyết kết hợp với thực nghiệm khảo sát để phân tích tác động của các thông số công nghệ đến chất lượng bề mặt; mòn điện cực và năng suất gia công Kế thừa và phát triển kết quả nghiên cứu trong và ngoài nước về EDM;
- Thực nghiệm gia công để xây dựng hàm quan hệ thông số công nghệ với hàm mục tiêu: Độ cứng tế vi lớp trắng; chiều dày lớp trắng; nhám bề mặt; mòn điện cực và năng suất bóc tách vật liệu, gồm các bước:
+ Xây dựng hệ thống thí nghiệm;
+ Tiến hành thực nghiệm;
+ Phân tích kết quả và tối ưu hóa
- Áp dụng phương pháp Taguchi và phương pháp Taguchi - AHP - Deng’s cho các bài toán tối ưu hóa đơn và đa mục tiêu
4 Đối tượng nghiên cứu
Nghiên cứu ảnh hưởng của các thông số công nghệ gồm: cường độ dòng điện (I); điện áp khe hở phóng điện (U); thời gian phóng điện (Ton); thời gian ngừng phóng điện (Toff) đến các chỉ tiêu đầu ra là: Độ cứng tế vi bề mặt (HV); chiều dày lớp trắng (WLT) nhám bề mặt (Ra); mòn điện cực (TWR) và năng suất bóc tách vật liệu (MRR) Trên cơ
sở thực nghiệm gia công bằng công nghệ gia công xung tia lửa điện (EDM), sử dụng điện cực đồng đỏ (copper) trên bề mặt của chi tiết mẫu từ thép SKD11 đã xử lý nhiệt đạt độ cứng 58 - 62 HRC
Trang 185 Giới hạn nghiên cứu
- Chi tiết gia công xung: SKD11 đã xử lý nhiệt, độ cứng đạt 58 - 62 HRC;
- Điện cực: Đồng đỏ (copper);
- Công nghệ gia công: Xung tia lửa điện;
- Giới hạn các thông số đầu vào:
+ Cường độ dòng điện: I = (1, 2, 3, 4, 5) A;
+ Điện áp khe hở: U = (30, 40, 50, 60, 70) V;
+ Thời gian phóng điện: Ton = (18, 25, 37, 50, 75) µs;
+ Thời gian ngừng phóng điện: Toff = (9, 12, 18, 25, 37) µs
7 Ý nghĩa khoa học và thực tiễn của đề tài
a Ý nghĩa khoa học
Bằng nghiên cứu thực nghiệm và áp dụng phương pháp Taguchi - AHP - Deng’s
để tối ưu hóa, đã xác định được ảnh hưởng của bộ thông số công nghệ đầu vào gồm cường độ dòng điện (I); điện áp khe hở phóng điện (U); thời gian phóng điện (Ton); thời gian ngừng phóng điện (Toff) đến độ cứng tế vi bề mặt (HV); chiều dày lớp trắng (WLT); mòn điện cực (TWR); nhám bề mặt (Ra) và năng suất bóc tách vật liệu (MRR)
b Ý nghĩa thực tiễn
- Kết quả của đề tài luận án có thể áp dụng vào thực tiễn sản xuất khi gia công EDM;
- Phương pháp nghiên cứu của đề tài luận án có thể làm tài liệu tham khảo trong công tác nghiên cứu và lựa chọn bộ thông số tối ưu khi gia công EDM
Trang 19CHƯƠNG 1: TỔNG QUAN VỀ GIA CÔNG TIA LỬA ĐIỆN
1.1 Lịch sử phát triển EDM
Người đầu tiên phát triển máy phóng tia lửa điện với một mạch điện tương tự như
hệ thống đánh lửa trên ô tô là Lazarenko (người Nga) vào năm 1943 Hệ thống này đã trở thành hệ thống EDM (Electrical Discharge Machining) tiêu chuẩn đầu tiên được sử dụng trên toàn thế giới (mạch điện trở - tụ điện (R-C) cho máy EDM (hình 1.1)) Những năm sau đó Lazarenko tiếp tục phát triển hệ thống và thiết kế một hệ thống tự động duy trì khoảng cách phóng điện từ điện cực tới phôi trong chu kỳ gia công EDM Nhiều máy EDM do Lazarenko thiết kế đã được sản xuất trong chiến tranh thế giới thứ II, cho phép gia công kim loại như Vonfram và Vonfram cacbua Từ mô hình này, các máy gia công tia lửa điện được phát triển ở các quốc gia bên ngoài nước Nga, đó là châu Âu và Nhật
Bản [73]
Năm 1967, một máy cắt dây EDM sản xuất tại Liên Xô đã được trưng bày tại một triển lãm máy tại Montreal, Quebec, Canada Máy này đặc trưng điều khiển số chuyển động bằng động cơ bước, độ chính xác gia công là 0,02 mm Thời gian cần thiết để cắt một vết cắt dài 127 mm thép dày 12,7 mm là 180 phút [73] Điện cực dùng cho máy cắt dây EDM là dây có đường kính nhỏ (d = 0,1 - 0,3 mm) được quấn thành cuộn Quá trình
Động cơ servo điều khiển điện cực tự động
Điện cực Khe hở đánh lửa Chất điện môi
Thùng chứa
Phôi (vật liệu dẫn điện)
Tụ điện (C) Nguồn điện 1 chiều
Điện trở (R)
Hình 1.1 Sơ đồ nguyên lý gia công tia lửa điện
sử dụng mạch điện R-C của Lazarenko [73]
Trang 20phóng điện ăn mòn xảy ra trong môi trường chất điện môi (nước đã khử ion) Sơ đồ máy gia công EDM điện cực dây được trình bày ở hình 1.2
Cho đến nay, phương pháp gia công này đã được phổ biến rộng rãi khắp nơi trên thế giới Nguyên tắc của phương pháp này là bắn phá chi tiết để tách vật liệu bằng nguồn năng lượng nhiệt rất lớn được sinh ra khi cho hai điện cực tiến gần nhau Trong hai điện cực này, một đóng vai trò là dao và một đóng vai trò là phôi trong quá trình gia công Trong thập niên 1960 đã có nhiều nghiên cứu sâu rộng về gia công EDM và đã giải quyết được nhiều vấn đề liên quan đến mô hình tính toán quá trình gia công EDM Trong thập niên 1970 đã xảy ra cuộc cách mạng về gia công trên máy cắt dây EDM nhờ vào việc phát triển các máy phát xung công suất lớn, các loại dây cắt và các phương pháp sục chất điện môi hữu hiệu [21] Máy gia công tia lửa điện ngày nay sử dụng động cơ tuyến tính có chuyển động chính xác cao, cập nhật công nghệ điều khiển mới nhất
Bộ điều khiển
Bộ quấn điện cực dây Bàn máy có
tấm bảo vệ
Tủ điện Động cơ di chuyển bàn máy
Bàn máy
Đế máy
Thúng chứa và bộ lọc chất điện môi
Hình 1.2 Sơ đồ máy gia công tia lửa điện, điện cực dây [73]
Trang 211.2 Đặc điểm gia công tia lửa điện
* Ưu điểm của gia công tia lửa điện
So với gia công cắt gọt truyền thống thì gia công tia lửa điện có các tính năng độc đáo:
- Gia công tia lửa điện sử dụng năng lượng nhiệt để gia công nên không có lực cắt gọt;
- Điện cực dụng cụ dùng trong gia công có độ cứng thấp hơn nhiều so với chi tiết gia công;
- Có thể gia công vật liệu dẫn điện với độ cứng cao mà phương pháp gia công truyền thống khó thực hiện;
- Có thể gia công những vị trí hốc khuôn có hình dạng góc hộp vuông kín mà phương pháp truyền thống không hoặc rất khó gia công được
* Nhược điểm của gia công tia lửa điện
- Cả phôi và điện cực đều phải dẫn điện;
- Sử dụng chất điện môi khi gia công, chất này không dẫn điện ở điều kiện bình thường;
- Năng suất gia công không cao;
- Để lại trên bề mặt chi tiết gia công lớp trắng có cấu trúc, độ cứng, ứng suất dư khác lớp kim loại nền
1.3 Ứng dụng gia công tia lửa điện
Do nguyên lý gia công khác với gia công truyền thống, năng suất bóc tách kim loại thấp nên phương pháp gia công bằng tia lửa điện hiện nay thường ứng dụng để gia công các chi tiết, bộ phận máy, đặc biệt trong sản xuất khuôn mẫu, chi tiết ô tô, hàng không vũ trụ và các dụng cụ phẫu thuật
1.4 Một số khái niệm trong gia công tia lửa điện
1.4.1 Chu kỳ gia công
Thông thường, khi gia công xung có thời gian phóng điện và thời gian ngắt khác nhau và rất ít khi bằng nhau Để đánh giá hay xác định công suất trung bình trong một chu kỳ người ta thường sử dụng khái niệm “chu kỳ gia công” Chu kỳ gia công là khoảng thời gian thực hiện phóng xung và ngắt xung điện Tuy nhiên trong chu kỳ ấy, việc đốt cháy chỉ được thực hiện khi phóng xung nên có thể xem xét tính hiệu quả trong một chu
Trang 22kỳ được xác định bằng tỷ lệ thời gian phóng xung ON trên tổng thời gian phóng xung
ON và ngừng xung OFF
Chu kỳ gia công = ON / (ON + OFF) (1.1) Trong đó: ON - thời gian phóng tia lửa điện (s);
OFF - thời gian ngừng phóng tia lửa điện (s)
1.4.2 Điện áp và cường độ dòng điện gia công
Để thực hiện được việc phóng tia lửa điện thì giữa hai điện cực (điện cực dụng
cụ và phôi) phải được duy trì một dòng điện Khi dòng điện chạy qua một chất điện môi, điện áp giữa điện cực dụng cụ và phôi được giảm gần như ngay lập tức từ điện áp mạch
100 V xuống (20 ÷ 50) V, Điện áp trong vùng phóng tia lửa điện (hình 1.3) này được gọi là điện áp gia công Điện áp gia công phụ thuộc vào rất nhiều yếu tố trong đó độ nhớt của chất điện môi và đặc tính điện của chất điện môi khi ion hóa ảnh hưởng lớn đến giá trị thực tế của điện áp giảm này
Khi điện áp được áp dụng giữa điện cực và phôi, sau đó chất điện môi được ion hóa, dòng điện chạy qua khoảng cách phát ra tia lửa Hình 1.4 minh họa điện áp và cường độ dòng điện trong một lần phóng tia lửa bình thường
Hình 1.3 Vùng điện áp xuất hiện tia lửa điện [73]
Thời gian
Thời gian phóng điện
Vùng điện áp xuất hiện tia lửa điện
Điểm ion hóa
Trang 23Hình 1.5 Dòng điện và điện áp trong chu kỳ xung [73]
Quá trình ion hóa điện môi diễn ra bất cứ lúc nào trong khoảng thời gian có điện
áp, thời gian phóng điện thay đổi, dựa trên điểm ion hóa của chất lỏng điện môi Hình 1.5 minh họa quá trình này
Đồ thị điện áp
Đồ thị I
I Thời gian
Thời gian
Hình 1.4 Điện áp và dòng điện khi xuất hiện tia lửa điện [73]
Trang 241.4.3 Thời gian phóng tia lửa điện T on
Sự trễ trong điểm ion hóa chất điện môi sẽ làm giảm thời gian phóng tia lửa Việc giảm thời gian phóng này làm giảm lượng vật liệu được loại bỏ bởi tia lửa điện Tuy nhiên, nguồn cung cấp năng lượng EDM luôn tạo ra tia lửa với thời gian bằng nhau Hình 1.5 cho thấy các tia lửa với thời gian bằng nhau, dựa trên điểm ion hóa chất điện môi
1.4.4 Thời gian ngừng phóng tia lửa điện Toff
Thời gian ngừng phóng điện phải đủ để vận chuyển phoi ra khỏi vùng gia công
và đủ thời gian chất điện môi ngừng ion hóa, làm ổn định quá trình gia công, nếu Toff
quá dài làm giảm năng suất bóc tách vật liệu Thời gian phóng điện và thời gian ngừng phóng điện tạo thành chu kỳ gia công
1.4.5 Sự ion hóa
Sự ion hóa là quá trình mà một electron bị loại bỏ khỏi nguyên tử, phân tử hoặc ion Quá trình này rất quan trọng để dẫn điện trong chất lỏng Khi các chất lỏng điện môi không ion hóa, điện áp được áp dụng cho khoảng cách phát ra tia lửa giữa phôi và điện cực Tuy nhiên, không có dòng điện giữa điện cực và phôi thông qua chất lỏng điện môi Ở đây, dạng sóng vuông tăng từ 0 đến điểm 100 V Nó vẫn còn đó cho đến khi ngắt điện làm cho điện áp giảm xuống 0, và được gọi là điện áp mạch hở, điện áp mạch hở cho hầu hết các nguồn điện EDM là khoảng 100 V Với khoảng cách giữa điện cực và phôi nhỏ hơn, chất điện môi ion hóa, xuất hiện tia lửa điện giữa điện cực và phôi Khi dòng điện chạy qua chất lỏng, điện áp giữa điện cực và phôi được giảm gần như ngay lập tức từ điện áp mạch hở 100 V xuống khoảng 20 đến 50 V, là dải điện áp nơi tia lửa xảy ra Điện áp này được gọi là điện áp gia công Độ bền điện môi và các đặc tính điện của chất lỏng điện môi trong quá trình ion hóa thiết lập giá trị thực tế của điện áp giảm này
1.4.6 Sự trễ của ion hóa
Quá trình ion hóa điện môi không phải lúc nào cũng xảy ra vào đầu thời gian có điện áp Nó có thể xảy ra bất cứ lúc nào trong khoảng thời gian có điện áp Hình 1.5 minh họa dạng sóng điển hình cho sự ion hóa điện môi bình thường và trễ, sau khi điện
áp mạch hở được áp dụng cho khoảng cách phát ra tia lửa.
Trang 25- Đồng vàng (Brass)
Đồng vàng sẵn có, thường sử dụng gia công EDM là bằng đồng thau Loại vật liệu này dùng làm điện cực có một tỷ lệ hao mòn thấp khi gia công thép, và tỷ lệ hao mòn rất cao khi gia công vonfram cacbua Đồng vàng thường không được khuyến cáo sử dụng với nguồn cung cấp điện R-C
- Đồng đỏ (Copper)
Đồng đỏ sẵn có và có thể được coi là đồng nguyên chất (đồng điện phân), thường dùng để gia công thép Đồng đỏ rất khó mài, nhưng có đặc điểm chống mòn tốt, thường được sử dụng cho các máy EDM với nguồn cung cấp điện R-C
- Đồng vonfram là một vật liệu thiêu kết làm từ đồng và vonfram, với tỷ lệ chung
là 70 % vonfram và 30 % đồng Nó có đặc tính chống mòn rất tốt Gia công khó khăn (trừ mài), đồng vonfram thường được sử dụng để gia công hợp kim cứng (cacbit vonfram)
- Than chì (Graphite)
Than chì có mật độ hạt khác nhau phụ thuộc vào kích thước hạt (tính bằng micro mét) của bột được sử dụng làm điện cực Cỡ hạt 100 microns cho gia công thô, 1 micron cho gia công tinh Than chì có khả năng chống mòn tốt, dễ gia công tạo hình nhưng rất bụi, than chì khi đạt đến nhiệt độ nóng chảy nó chuyển từ trạng thái đặc sang trạng thái khí (không qua trạng thái chảy loãng), nhiệt độ nóng chảy của than chì rất cao, xấp xỉ bằng nhiệt độ nóng chảy của vonfram, than chì không được khuyến cáo gia công hợp kim cứng Nó cũng không được khuyến cáo sử dụng cho các máy với nguồn cung cấp điện R-C
- Đồng than chì là hạt tinh than chì được thâm nhập vào với đồng, có những phẩm chất của than chì, cộng với độ dẫn điện của đồng
- Hợp kim kẽm có thể được sử dụng như một vật liệu điện cực, nhưng có đặc tính chống mòn kém
Trang 261.4.8 Phoi EDM
EDM là một quá trình mà các mảnh phoi (chip) được tạo ra bởi năng lượng nhiệt phát sinh từ sự bắn phá của phôi và điện cực bằng các ion và electron dương Hình 1.6 minh họa việc tạo thành phoi từ việc bắn phá bề mặt
Sự hình thành phoi: Với điện cực âm, các ion dương bị hút vào bề mặt điện cực
Các ion va vào bề mặt này với lực và nhiệt làm bốc hơi bề mặt Đồng thời, các electron
bị hút mạnh về phía phôi gia công kết quả cũng làm bốc hơi bề mặt phôi Sự hóa hơi từ
bề mặt điện cực và phôi gia công hình thành các hình cầu rỗng trong chất lỏng điện môi tạo thành phoi Các mảnh phoi EDM chứa vật liệu từ cả điện cực và phôi gia công Khi cực điện được phân cực dương, điện cực bị bắn phá bởi các electron và các phôi phân cực âm được bắn phá bởi các ion dương Mỗi tia lửa tạo ra một mảnh phoi và có từ 2.000 đến 500.000 tia lửa được phóng ra sau mỗi giây Các mảnh phoi rất nhỏ, nếu các mảnh phoi không được loại bỏ với cùng tốc độ chúng được tạo ra, chúng sẽ ở trong khe
hở phóng điện ảnh hưởng đến quá trình phát ra tia lửa [73]
Dòng chảy của chất điện môi: sẽ đảm nhiệm việc loại bỏ phoi trong khe hở phóng
điện bằng áp lực dòng chảy, khe hở dòng chảy chảy qua, dòng chảy phía ngoài, chuyển động lên xuống của điện cực.v.v…
Điện cực
Cực âm
Chất điện môi
Bắn phá của electron Đám mây khí
Cột tia lửa điện
Bắn phá của ion dương
Cực dương Chi tiết (phôi)
Mảnh phoi
Hình 1.6 Quá trình tạo thành phoi EDM [73]
Trang 27Hình 1.7 minh họa dòng áp suất qua điện cực và phôi gia công Sử dụng dòng chảy
áp lực, dẫn điện môi chảy qua khoảng cách phát ra tia lửa đối với điện cực và phôi gia công Dòng chảy ngoài loại bỏ phoi EDM Thông thường, một vòi phun bên ngoài được
sử dụng để dẫn chất lỏng đến khu vực gia công, dòng chảy này sẽ loại bỏ phoi ra khỏi khu vực phát ra tia lửa một cách dễ dàng
1.4.9 Loại mạch điện của máy xung
Máy EDM sử dụng các loại tia lửa điện khác nhau phụ thuộc vào các mạch điện
tử được cung cấp Tia lửa thường được tạo ra bởi một trong hai loại mạch điện EDM:
- Mạch điện trở - tụ điện (R-C);
- Mạch công tắc ON/OFF điện tử
Cả hai loại mạch công tắc ON/OFF điện tử và mạch R-C được sử dụng trong gia công xung và cắt dây Nhìn chung, mạch R-C ứng dụng cho chi tiết đòi hỏi có bề mặt mịn cao hoặc cho khoan lỗ nhỏ, lỗ chính xác Loại mạch công tắc ON/OFF điện tử cung cấp khả năng gia công với điện cực than chì hoặc các điện cực kim loại với cường độ dòng điện cao hơn
Dòng chảy với chip EDM
Vòi phun có
áp lực
Dòng chảy tràn vào khu vực gia công khi điện cực rút lên Phoi được đưa ra ngoài cùng dòng chảy
Chi tiết Điện cực
Điện cực
Vòi phun có
áp lực Dòng chảy phun vào khu vực gia công
Phoi được tạo ra từ khu vực phóng tia lửa
điện
Chi tiết
Điện cực Rút lên
Điện cực
Đi xuống
Hình 1.7 Dòng chảy khi điện cực rút lên [73]
Trang 281.5 Tình hình nghiên cứu trong và ngoài nước về EDM
1.5.1 Tình hình nghiên cứu ngoài nước
EDM là một phương pháp gia công không truyền thống [1, 73] được sử dụng phổ biến để tạo các bề mặt định hình ở các thép đã qua nhiệt luyện Phương pháp này sử dụng các tia lửa điện sinh ra trong khe hở phóng điện giữa điện cực và phôi được ngâm trong dung dịch điện môi, làm nóng chảy và bay hơi vật liệu gia công để hình thành dạng bề mặt theo yêu cầu [7] Năng suất và chất lượng của bề mặt gia công có ảnh hưởng trực tiếp đến giá thành sản phẩm Khuôn mẫu là dạng sản phẩm được tạo hình bằng EDM là chủ yếu [8, 14], là dạng sản phẩm có giá trị kinh tế cao
Hiện nay, việc lựa chọn các thông số công nghệ trên máy EDM tại các doanh nghiệp thường dựa vào kinh nghiệm thực tiễn, các khuyến nghị của sổ tay hoặc tài liệu hướng dẫn đi kèm với máy Điều này dẫn tới hiệu quả sử dụng của máy EDM chưa cao Nghiên cứu tối ưu hóa các thông số công nghệ trong EDM bằng các mô hình thực nghiệm là một giải pháp tiên tiến và phù hợp để khắc phục những hạn chế trên [12, 22, 24]
Có nhiều đề xuất giải pháp mới để cung cấp dòng dung dịch điện môi trong gia công EDM bằng điện cực dây Trong nghiên cứu của mình, tác giả Bharat C Khatri và các cộng sự [20] đã đề xuất một phương pháp mới sử dụng dòng chảy đồng tâm của chất điện môi dạng khí cho quá trình WEDM Điện cực dây vonfram,phôi gia công là hợp kim titan dạng tấm mỏng Ti-6Al-4V, đã được sử dụng cho các thí nghiệm với chế độ dòng chảy bên và dòng chảy đồng tâm với một luồng khí nén làm điện môi Dòng điện,
áp suất khí nén, thời gian phát xung và thời gian ngừng phát xung đã được chọn làm tham số quá trình và các tác động lên tốc độ cắt, chiều rộng rãnh cắt và tốc độ loại bỏ vật liệu (MRR) đã được nghiên cứu Kết quả dòng chảy khí đồng tâm có tốc độ cắt cao hơn 18 %, chiều rộng rãnh cắt nhỏ hơn 7 %, MRR cao hơn 10 % so với dòng chảy bên Hạn chế của phương pháp này là chế tạo hệ thống phức tạp và tốn kém hơn
Nghiên cứu tối ưu hóa các thông số công nghệ trong EDM bằng các mô hình thực nghiệm là một giải pháp tiên tiến và phù hợp Bằng nghiên cứu thực nghiệm gia công thép hợp kim 718 trên máy lai xung điện và mài bằng đá mài kim cương, dung dịch điện môi trộn hạt mài, tác giả Deepak Rajendra Unune và các cộng sự [21] dựa trên phương pháp phản hồi bề mặt để tối ưu hóa đa mục tiêu cho năng suất bóc tách vật liệu đạt được
Trang 29cao nhất là 13,90 mm3/phút và nhám bề mặt Ra thấp nhất là 2,484 µm Nghiên cứu này cho thấy việc bổ sung các hạt mài trong chất lỏng điện môi giúp tăng cường đáng kể hiệu suất của quá trình
Taguchi và RSM là hai kỹ thuật tối ưu được sử dụng phổ biến trong EDM và các công nghệ gia công không truyền thống khác [23, 26] Trong tài liệu này tác giả thống
kê các nghiên cứu sử dụng phương pháp Taguchi và RSM, kết hợp với các phương pháp tối ưu hóa như: mạng nhân tạo ANN; tối ưu hóa bầy đàn PSO; phân tích quan hệ xám GRA; giải thuật di truyền GA
Phương pháp Taguchi khá dễ dàng khi kết hợp với các phương pháp tối ưu đa mục tiêu khác [26] Trong nghiên cứu [25] Taguchi kết hợp với Topsis để tối ưu hóa khi gia công EDM, dung dịch điện môi kết hợp giữa dầu EDM và dầu cọ, thép mangan được chọn làm chi tiết gia công, các thông số đầu vào được chọn là: I; Ton; Toff, phần mềm Minitab17 được dùng để phân tích, kết quả tối ưu cho hai chỉ tiêu đầu ra là MRR và Ra
là bộ thông số đầu vào: I = 15 A, Ton = 100 µs và Toff = 50 µs
Taguchi được kết hợp với ANN và RSM để xác định giá trị MRR và Ra trong WEDM cho Ti50Ni40Co10 [27], thiết kế thí nghiệm mảng trực giao L25 Kết quả cho thấy Taguchi - ANN cho độ chính xác cao hơn và giá trị lỗi nhỏ hơn so với Taguchi - RSM
Sử dụng kỹ thuật kết hợp của RSM với Fuzzy và Topsis để tối ưu hóa đồng thời
4 chỉ tiêu chất lượng trong EDM cho vật liệu Ti-6Al-4V, và bộ thông số công nghệ tối
ưu đã được xác định [28] Tuy nhiên, so với phương pháp Taguchi thì số lượng thí nghiệm rất lớn và mức được khảo sát của mỗi thông số ít hơn
Các phương pháp Taguchi - Triangular Fuzzy - Topsis đã được kết hợp để tối ưu hóa đồng thời 5 chỉ tiêu chất lượng trong EDM, điện cực đồng và thép các bon crom được đưa vào thí nghiệm Kết quả đã cho thấy sự kết hợp này có hiệu quả trong bài toán
đa mục tiêu [29]
MRR lớn hơn và TWR nhỏ hơn, đây là các kết quả nhận được trong bài toán tối
ưu đa mục tiêu trong EDM cho silicon nitride - Titanium nitride bằng Taguchi - Topsis
và Taguchi - GRA Đây là hai giải pháp phù hợp với bài toán đa mục tiêu trong lĩnh vực này [30]
Taguchi - GRA đã được kết hợp để giải bài toán tối ưu hóa đồng thời 3 chỉ tiêu chất lượng (MRR, EWR và OC) trong EDM cho Cp Titanium [31] Kết quả phân tích
Trang 30đã cho thấy bộ thông số tối ưu nhận được bằng tính toán khác với bộ thông số trong phân tích ANOVA tỷ số S/N của quan hệ xám
Nghiên cứu thực hiện tính toán có sự kết hợp Taguchi - Topsis để xác định bộ thông số công nghệ tối ưu trong bài toán đa mục tiêu của WEDM [32], ba thực nghiệm được đưa vào để nghiên cứu chứng minh ứng dụng của phương pháp Topsis Kết quả cho thấy Topsis có thể là giải pháp hiệu quả để giải bài toán đa mục tiêu trong EDM và các lĩnh vực công nghệ khác
MRR và Ra là các chỉ tiêu chất lượng đã được tối ưu hóa đồng thời trong WEDM bằng hai giải pháp Taguchi - Topsis và Taguchi - GRA [33], thép EN31 được đưa vào thí nghiệm với mảng trực giao Taguchi L27 Kết quả được phân tích và so sánh giữa hai
sự kết hợp này, cho thấy rằng Topsis có hiệu quả lớn hơn
ANOVA trong bài toán đa mục tiêu của WEDM cho thép trắng bằng Taguchi và GRA được thực hiện [34], chỉ tiêu chất lượng là nhám bề mặt và chiều rộng rãnh được đưa vào làm chỉ tiêu đánh giá ANOVA cho Taguchi và GRA đã được thực hiện, bộ thông số tối ưu đã được xác định bằng hai phương pháp trên có sai khác không đáng kể
Ngoài ratối ưu hóa đa mục tiêu cho nhôm 7075 khi khoan EDM bằng lý thuyết quan hệ xám Taguchi, chất lượng bề mặt cũng được phân tích là tốt [35] Bằng sự kết hợp Taguchi - Topsis với ANOVA để tối ưu hóa, được thực hiện với thép M2, mảng trực giao Taguchi L36 được đưa vào thực nghiệm Kết quả đánh giá hiệu quả gia công trong EDM đã được cải thiện xấp xỉ 10,47 % [36]
Phân tích tỷ số S/N của chỉ số tối ưu (C*) trong Taguchi - Fuzzy - Topsis đã được
sử dụng để xác định bộ thông số tối ưu trong bài toán tối ưu đa mục tiêu trong EDM [37], với vật liệu thép trắng 304, mảng trực giao Taguchi L9
Tính toán bài toán đa mục tiêu bằng Taguchi - Topsis đã cho bộ thông số tối ưu khác với kết quả nhận được bằng phân tích ANOVA tỷ số S/N cho chỉ số tối ưu C* trong EDM sử dụng điện cực ống đồng nano [38], gia công thép công cụ AISI D2
Khi sử dụng Taguchi - Fuzzy để tối ưu hóa đa mục tiêu trong EDM cho inconel
825 [39] Cho thấy MRR tăng 103,25 % và Ra giảm 32,11 % Đây là giải pháp kỹ thuật với hiệu quả tốt cho các kỹ thuật viên và nhà nghiên cứu trong lĩnh vực này
Sự kết hợp của ANOVA và Taguchi - Topsis để giải bài toán tối ưu đa mục tiêu trong EDM khoan thép trắng 304, mảng trực giao L27 được thiết kế, với các thông số
Trang 31đầu vào là: U; I; Ton; Toff Kết quả tối ưu đã cho hiệu quả tốt hơn ( 37 %) Đây có thể
là giải pháp tốt trong thực tiễn sản xuất [40]
Phương pháp Topsis - Simos đã được sử dụng để tối ưu hóa đồng thời 7 chỉ tiêu chất lượng, với mảng trực giao L27, trong EDM khoan thép AISI 304 [41] Bộ thông số tối ưu bao gồm: U; I; Ton; tốc độ cấp điện cực đã được xác định
Kỹ thuật ANOVA tỷ số S/N cho chỉ tiêu tối ưu () trong Taguchi - GRA đã xác định được bộ thông số tối ưu trong WEDM [42], mảng trực giao L16, cho bốn tham số gia công ở bốn mức được chọn để tiến hành các thí nghiệm cho vật liệu chi tiết gia công AA7178-10 wt.% ZrB2
MRR và Ra được sử dụng là các chỉ tiêu tối ưu Sự kết hợp Taguchi - AHP - Topsis đã được sử dụng trong bài toán tối ưu đa mục tiêu của công nghệ gia công không truyền thống [43] Sự kết hợp này đã dẫn đến việc lựa chọn trọng số của các chỉ tiêu chất lượng đơn giản Lỗi xuất hiện trong phương pháp này rất ít, cán bộ kỹ thuật không cần thiết phải có trình độ quá cao
Nghiên cứu cấu trúc lớp bề mặt tối ưu sau khi gia công WEDM trên thép 2205 DSS đã được các nhà khoa học thực hiện [47]
Lớp trắng trên bề mặt gia công sau quá trình WEDM đã được phân tích và đánh giá một cách khá sâu sắc thông qua nhiều yếu tố như thành phần hóa học, trạng thái hợp kim, cơ tính và môdul đàn hồi E cho vật liệu gia công là hợp kim tổng hợp X140
CrMoV5-4-4PM và Inconel 825[48, 51] Tuy nhiên, vẫn cần phải có những phân tích
và xem xét kỹ hơn nữa để xác định được sự phù hợp của lớp trắng với yêu cầu làm việc của các loại khuôn mẫu
Nhiều thuật toán tối ưu đã được nghiên cứu để tối ưu hóa đa mục tiêu trong EDM như: GRA, ANN, PSO, Topsis [49, 50] Tuy nhiên, các kết quả nhận được từ các phương pháp này là khác nhau trong nhiều bài toán tối ưu cụ thể, điều này đã gây khó khăn với việc lựa chọn bộ thông số tối ưu và kết quả tối ưu Đây là một vấn đề cần được quan tâm nghiên cứu
1.5.2 Tình hình nghiên cứu trong nước
Ở trong nước, một số kết quả nghiên cứu được công bố về quá trình gia công xung điện Trong các nghiên cứu đó, các tác giả đã đánh giá sự ảnh hưởng của chế độ công nghệ khi xung gồm 3 thông số chính là điện áp đánh lửa U, cường độ dòng phóng
Trang 32tia lửa điện I, thời gian phóng xung Ton đến chất lượng bề mặt là độ nhám, đến độ chính xác tạo hình [7] Trên cơ sở nghiên cứu sự ảnh hưởng của chế độ công nghệ, các tác giả [12] đã thực hiện bài toán tối ưu hóa với hàm mục tiêu là độ mòn tương đối của điện cực
Cũng bằng nghiên cứu thực nghiệm, tác giả Hoàng Vĩnh Sinh [9] đã thực hiện tối ưu hóa quá trình gia công kim loại trên máy xung tia lửa điện theo hướng đơn mục tiêu Tác giả Vũ Quang Hà đã nghiên cứu ảnh hưởng của chế độ công nghệ đến năng suất và chất lượng bề mặt khi gia công bằng phương pháp cắt dây tia lửa điện [10]
Nguyễn Hữu Phấn [11] sử dụng Taguchi thiết kế thực nghiệm, với bột Titan trộn vào dung dịch điện môi, sử dụng điện cực đồng và graphit, chi tiết gia công SKD11, SKD61, SKT4; phương pháp Taguchi - GRA được sử dụng để tối ưu hóa với kết luận nồng độ bột 10g/l cho năng suất và chất lượng bề mặt gia công cao
Khoa học công nghệ phát triển, các dạng bài toán tối ưu hóa được đặt ra Giải pháp để thực hiện bài toán tối ưu hóa không chỉ đơn mục tiêu mà còn hướng tới đa mục tiêu Trên cơ sở nghiên cứu lý thuyết, các tác giả [4, 9] đã thực hiện bài toán tối ưu hóa theo phương pháp bầy đàn (PSO) và giải thuật di truyền (GA) Đây là một giải pháp tích cực giúp cho việc thực hiện bài toán đa mục tiêu hài hòa hơn
Việc lựa chọn các trọng số của các chỉ tiêu chất lượng tối ưu trong EDM rất phức tạp, và trong rất nhiều trường hợp chỉ được lựa chọn theo kinh nghiệm Giá trị trọng số của các chỉ tiêu chất lượng được lựa chọn thông qua ý kiến của các chuyên gia thường cho kết quả với độ tin cậy không cao, bởi vậy việc đề xuất các giải pháp lý thuyết để xác định kết quả của bài toán đa mục tiêu là rất cần thiết [44] AHP - Topsis và AHP - GRA đã được giới thiệu và có thể ứng dụng trong nhiều lĩnh vực khác nhau Sự kết hợp của Taguchi - AHP - Deng’s đã được đề xuất để tối ưu hóa đa mục tiêu trong gia công EDM điện cực dây (WEDM) [45], mảng trực giao L18 được thiết kế cho vật liêu gia công là nhôm 6061 Tuy nhiên, nghiên cứu này chưa thực hiện phân tích ANOVA hệ số S/N cho Pi để xác định bộ thông số công nghệ tối ưu Trong nhiều trường hợp, Deng’s
là giải pháp có thể cải thiện được những lỗi của Topsis trong giải các bài toán đa mục tiêu [46]
Từ các nghiên cứu trong và ngoài nước, các kết quả đã đạt được của các nghiên cứu trên, kế thừa những ưu điểm của phương pháp AHP - Deng’s, kết hợp với yêu cầu cấp thiết của thực tiễn sản xuất EDM trong nước, tác giả đề xuất chọn giải pháp: Sử
Trang 33dụng phương pháp Taguchi để thiết kế thí nghiệm, các chỉ tiêu chất lượng gồm độ cứng
tế vi lớp trắng (HV); chiều dày lớp trắng (WLT); nhám bề mặt (Ra); mòn điện cực (TWR) và năng suất bóc tách vật liệu (MRR) trong EDM được sử dụng đưa vào nghiên cứu, các thông số công nghệ gồm điện áp khe hở phóng điện (U); cường độ dòng điện (I); thời gian phóng điện (Ton); thời gian ngừng phóng điện (Toff) được chọn là các thông
số đầu vào Phương pháp taguchi được sử dụng để tối ưu hóa đơn mục tiêu; Phương pháp Taguchi - AHP - Deng’s được sử dụng để tối ưu hóa 5 mục tiêu chất lượng trong EDM để gia công thép SKD11, sử dụng điện cực đồng (copper)
KẾT LUẬN CHƯƠNG 1
Thông qua việc nghiên cứu tổng quan về gia công tia lửa điện có thể kết luận:
1 Gia công bằng tia lửa điện đã được phát triển mạnh trong hàng chục năm qua, góp phần nâng cao khả năng gia công vật liệu trong chế tạo máy;
2 Mặc dù đã có nhiều nghiên cứu về EDM đặc biệt tại Việt Nam phần cần được đưa vào nghiên cứu sâu là ảnh hưởng của chế độ công nghệ đến đặc tính lớp trắng bề mặt gia công;
3 Trên cơ sở đó định hướng nghiên cứu của đề tài luận án là: Nghiên cứu xác định chế độ công nghệ tối ưu khi gia công xung tia lửa điện bằng điện cực đồng với 4 thông số công nghệ được lựa chọn là thông số đầu vào là: cường độ dòng điện (I); điện
áp khe hở phóng điện (U); thời gian phóng điện (Ton); thời gian ngừng phóng điện (Toff);
5 chỉ tiêu đánh giá được lựa chọn là thông số đầu ra là: Độ cứng tế vi bề mặt (HV); chiều dày lớp trắng (WLT); nhám bề mặt (Ra); mòn điện cực (TWR); năng suất bóc tách vật liệu (MRR)
Trang 34CHƯƠNG 2: CƠ SỞ LÝ THUYẾT
2.1 Cơ sở lý thuyết gia công tia lửa điện
Theo tài liệu [1, 18] cơ sở lý thuyết gia công tia lửa điện được tìm hiểu trên các khía cạnh: bản chất vật lý; cơ chế tách vật liệu; đặc tính về điện; lượng hớt vật liệu; chất lượng bề mặt; mòn điện cực; chất điện môi
2.1.1 Bản chất vật lý của quá trình phóng tia lửa điện
Gia công tia lửa điện là một quá trình gia công hớt đi một phần vật liệu trên chi tiết gia công dựa trên sự phóng điện giữa điện cực và phôi trong chất điện môi (thường
là hydrocarbon) làm nóng chảy và bốc hơi bề mặt phôi và điện cực, điện cực thường đóng vai trò là dụng cụ cắt
Khi gia công tia lửa điện, điện cực không tiếp xúc vật lý với phôi để loại bỏ vật liệu như sự tiếp xúc của dụng cụ cắt với phôi trong gia công truyền thống, do vậy không
có lực cắt do điện cực tạo ra Điện cực luôn luôn có khoảng cách cần thiết so với phôi
để duy trì khe hở phóng điện Có khoảng 2.000 đến 500.000 tia lửa điện xuất hiện đồng thời trong một giây trong quá trình gia công Tia lửa điện được phóng ra từ điểm gần nhất giữa điện cực và phôi, việc bóc tách vật liệu xảy ra ở cả điện cực và phôi, nên khoảng cách giữa điện cực và phôi tại điểm đó tăng lên, tia lửa tiếp theo sẽ xuất hiện tại điểm gần nhất kế tiếp, cứ như thế tia lửa sẽ xuất hiện trên khắp bề mặt gia công của phôi
Chất điện môi
Phôi
Tia lửa xuất hiện khi chất điện môi ion hóa
Điện cực
Hiệu điện thế
Hình 2.1 Sơ đồ nguyên lý gia công tia lửa điện [73]
Trang 35và điện cực [73] Xung điện là một dạng gia công tia lửa điện mà điện cực làm dụng cụ gia công có hình dạng tương ứng với hình dạng của chi tiết gia công Cắt dây tia lửa điện sử dụng điện cực dây chuyển động liên tục, phóng tia lửa điện cắt đứt phôi tạo ra hình dáng chi tiết
Nguyên lý: Điện áp một chiều được thiết lập giữa điện cực và phôi, khe hở giữa
phôi và điện cực được điền đầy chất điện môi (hình 2.1) Khi điện cực tiến đến gần phôi,
ở khoảng cách nhất định, chất điện môi bị ion hóa và xuất hiện tia lửa điện đốt nóng, làm tan chảy và bốc hơi vật liệu Khi dòng điện bị ngắt đột ngột, quả bóng hơi vỡ ra tạo thành phoi [73] Quá trình này bao gồm 3 pha được tạo thành theo một chu kỳ được mô
tả như sau (hình 2.2):
Pha 1: Điện áp 1 chiều giữa điện cực và phôi ở điểm gần nhau nhất tạo ra điện
trường mạnh nhất làm chất điện môi bị ion hóa, tia lửa xuất hiện
Pha 1: Ion hóa
Trang 36Pha 2: Kênh phóng điện được hình thành, cường độ dòng điện thể hiện năng suất
gia công, tương ứng với 1Ampere có 6.25 × 1018 điện tử đi qua điện cực và phôi trong một giây Một điều lý thú là tốc độ của tia lửa điện di chuyển với vận tốc gần với vận tốc ánh sáng, bằng 299,274 km/giây, tốc độ này bằng khoảng 7 lần chu vi trái đất tính ở đường xích đạo trong một giây Trong mỗi lần phóng điện, hàng triệu điện tử di chuyển
dễ dàng trong cột chất điện môi đã được Ion hóa giữa điện cực và phôi với vận tốc ánh sáng Trong quá trình ấy, các điện tử được giải phóng và được phân cực, các điện tử mang điện tích dương bị hút về điện cực âm, các điện tử mang điện tích âm bị hút về điện cực dương (điện cực và phôi có thể đấu cực âm hoặc dương) Các điện tử có nhiệt
độ 8000oC đến 12000oC bắn phá làm nóng chảy và bốc hơi bề mặt phôi và điện cực Cần lưu ý rằng chất điện môi không phải luôn luôn ion hóa tại điểm bắt đầu của chu kỳ
ON (chu kỳ phóng điện) Nó có thể xảy ra bất cứ lúc nào trong khoảng thời gian điện
áp ON giữa điện cực và phôi, khi ion hóa chất điện môi diễn ra, dòng điện chạy qua khe
hở phóng điện dưới hình thức tia lửa điện Sự trễ của ion hóa chậm phát ra tia lửa trong thời gian ON khiến cho thời gian phóng điện giảm, dẫn đến làm giảm số lượng vật liệu
bị loại bỏ bởi các tia lửa Tuy nhiên, nguồn cung cấp điện trong EDM luôn luôn tạo ra thời gian phóng tia lửa điện bằng nhau Thời gian phóng điện của các lần phóng tia lửa điện như nhau mặc dù thời điểm ion hóa khác nhau, điều đó đảm bảo lượng bóc tách vật liệu như nhau và đồng đều trên bề mặt chi tiết [73]
Pha 3: Máy phát ngắt dòng điện, giữa điện cực phôi và điện cực dụng cụ không
còn điện áp, kênh phóng điện biến mất, quả bóng hơi bị làm nguội đột ngột nên vỡ ra tạo thành phoi Trong phoi này có cả vật liệu của phôi và điện cựcnhưng chủ yếu là vật liệu của phôi
Đồ thị dòng điện và điện áp trong các chu kỳ xung được mô tả như hình 2.3
Hình 2.3 Đồ thị dòng điện và điện áp trong một chu kỳ xung [1]
Trang 377 Ue: Điện áp phóng tia lửa điện;
8 Ie: Dòng phóng tia lửa điện
2.1.2 Cơ chế tách vật liệu
Các đặc tính tách vật liệu đầu tiên phụ thuộc vào năng lượng tách vật liệu Nếu gọi năng lượng tách vật liệu là We, theo tài liệu [1]:
We = Ue.Ie.te (J) (2.1) Trong đó: Ue, Ie là các giá trị trung bình của điện áp và dòng điện được lấy trong khoảng thời gian phát xung te Dòng điện tổng cộng trong kênh plasma qua khe hở phóng điện là tổng của các dòng điện tử chạy tới cực dương (a-nốt) và dòng các ion dương chạy tới cực âm (ca-tốt) Do khối lượng của các ion dương lớn hơn trên 100 lần so với khối lượng các điện tử, nên có thể bỏ qua tốc độ của các ion dương khi xuất phát các xung điện so với tốc độ của điện tử Mật độ điện tử tập trung tới bề mặt cực dương (a-nốt) cao hơn nhiều lần so với mật độ ion dương tập trung tới bề mặt cực âm (ca-tốt) trong khi mức độ tăng của dòng điện rất lớn trong khoảnh khắc đầu tiên của sự phóng điện Điều này là nguyên nhân gây ra sự nóng chảy rất mạnh cực dương (a-nốt) trong chu kỳ này Dòng ion dương chỉ đạt tới cực âm (ca-tốt) trong micrô giây đầu tiên Các ion dương gây ra sự nóng chảy và bốc hơi của vật liệu ca-tốt Do đó có hiện tượng điện cực bị mòn Vật liệu điện cực khi tiếp xúc với plasma này ở một pha có áp lực cao tới 1 kbar và nhiệt độ cực cao tới 10.000°C trong kênh plasma Một lý do quan trọng của việc thoát ra vật liệu bị chảy lỏng là sự đột ngột biến mất của của kênh plasma khi dòng điện
bị ngắt Ngay lập tức áp suất tụt xuống bằng áp suất xung quanh sau khi ngắt dòng điện Nhưng nhiệt độ của dòng chất lỏng lại không hạ nhanh như thế nên gây ra sự nổ và bốc hơi của chất lỏng hiện có Tốc độ cắt của dòng điện và mức độ sụt của xung dòng điện
Trang 38sẽ quyết định tốc độ sụt áp suất và sự bắt buộc nổ vật liệu chảy lỏng Thời gian sụt của
dòng điện là yếu tố quyết định đối với độ nhám bề mặt gia công
Vì lượng vật liệu được hớt đi phụ thuộc vào điện áp, cường độ dòng điện và thời gian nên các nhà nghiên cứu đã nghiên cứu một cách chính xác tuần tự theo thời gian của điện áp và dòng điện trong lúc phóng tia lửa điện, đo điện áp và dòng điện ở các khoảng thời gian đã cho từ thời điểm phóng điện (t = 0) đến thời điểm ngắt điện (nghĩa
là vào khoảng t = 300 μs) theo mô tả trên hình 2.4[1]
2.1.3 Đặc tính về điện của sự phóng tia lửa điện
Dựa vào các đặc tính thời gian của sự phóng tia lửa điện có thể nhận ra các đặc tính
về điện [1] Các đặc tính này chính là thông số điều chỉnh quan trọng nhất của quá trình gia công Mỗi máy phát của thiết bị gia công tia lửa điện đều có nhiệm vụ là cung cấp năng lượng làm việc cần thiết Trước đây thường sử dụng các máy phát có tụ bù Nhược điểm của loại máy này là 50 % năng lượng tích trữ trong điện trở bị biến thành nhiệt, vì vậy loại máy này chỉ có hiệu suất khoảng 50 % Ngày nay các tụ bù này chỉ được sử dụng trong các bộ ngắt xung để thực hiện tối ưu việc gia công đơn giản
Máy phát điện hiện đại của một thiết bị gia công tia lửa điện là một máy phát xung tĩnh Ở đây năng lượng được điều khiển bằng điện tử nhưng không có yếu tố bù Nguyên
lý tác dụng của máy phát xung tĩnh thực hiện được trước hết thông qua sự phát triển của
Hình 2.4 Diễn biến của một quá trình phóng tia lửa điện [1]
Trang 39các sản phẩm điện tử hiện đại Máy phát xung tĩnh có ưu việt lớn ở độ linh hoạt của các thông số điều chỉnh Qua đó, mỗi trường hợp gia công có thể được giải quyết dưới quan điểm là điện cực phải mòn ít nhất và chất lượng bề mặt gia công tối ưu Muốn vậy tất
cả các thông số của quá trình gia công phải được điều chỉnh phù hợp Các thông số của điện áp đó bao gồm:
- Điện áp đánh lửa Uz: Đây là điện áp cần thiết để dẫn tới sự đánh lửa tia lửa điện,
nó được cung cấp cho điện cực và phôi khi máy phát được đóng điện, gây ra sự phóng tia lửa điện để đốt cháy vật liệu Điện áp đánh lửa Uz càng lớn thì phóng điện càng nhanh
và cho phép khe hở phóng điện càng lớn
- Thời gian trễ đánh lửa td: Đó là thời gian giữa lúc đóng điện máy phát và lúc xảy
ra phóng tia lửa điện Khi đóng điện máy phát lúc đầu chưa xảy ra hiện tượng gì Điện
áp duy trì ở điện áp đánh lửa Uz, dòng điện vẫn bằng 0 Sau khoảng thời gian trễ td mới xảy ra hiện tượng phóng tia lửa điện, dòng điện từ không tăng vọt lên giá trị Ie
- Điện áp phóng tia lửa điện Ue: Khi bắt đầu phóng tia lửa điện thì điện áp sụt từ Uz
xuống giá trị Ue
- Dòng phóng tia lửa điện Ie: Là giá trị trung bình của dòng điện từ khi bắt đầu phóng tia lửa điện đến khi ngắt điện Khi bắt đầu phóng tia lửa điện dòng điện tăng mạnh từ không đến giá trị Ie, kèm theo là sự đốt cháy Ie ảnh hưởng lớn nhất lên lượng hớt vật liệu, lên độ mòn điện cực và chất lượng bề mặt gia công Nhìn chung Ie càng lớn thì lượng hớt vật liệu càng lớn, độ nhám càng lớn nhưng độ mòn điện cực giảm
- Thời gian phát xung te: Là khoảng thời gian giữa lúc bắt đầu phóng tia lửa điện và lúc ngắt điện (thời gian có dòng điện Ie trong 1 lần phóng điện)
- Độ kéo dài xung ti: Là khoảng thời gian giữa hai lần đóng ngắt của máy phát trong cùng 1 chu kỳ phóng tia lửa điện Độ kéo dài xung ti là tổng của thời gian trễ đánh lửa
td và thời gian phát xung te theo tài liệu [1]:
ti = td + te (µs) (2.2)
Độ kéo dài xung ảnh hưởng đến:
+ Tỷ lệ bóc tách vật liệu (MRR);
+ Độ mòn điện cực (TWR);
+ Chất lượng bề mặt gia công
- Khoảng cách xung t0: Là khoảng thời gian giữa hai lần đóng ngắt của máy phát giữa 2 chu kỳ xung kế tiếp nhau, t0 còn được gọi là độ kéo dài nghỉ của xung Phải giữ
Trang 40cho t0 nhỏ để có thể đạt được lượng hớt vật liệu tối đa Nhưng khoảng cách xung t0 phải
đủ lớn để có đủ thời gian thôi ion hóa chất điện môi trong khe hở phóng điện Nhờ đó
sẽ tránh được các lỗi của quá trình như tạo hồ quang hoặc dòng điện ngắn mạch Trong thời gian của khoảng cách xung t0 dòng chảy sẽ đẩy phoi EDM ra khỏi khe hở phóng điện
2.1.4 Lượng hớt vật liệu
- Năng lượng phóng tia lửa điện và hớt vật liệu, trong đó các yếu tố tác động lên lượng hớt vật liệu là [18]:
+ Điện áp phóng tia lửa điện;
+ Dòng phóng tia lửa điện;
+ Thời gian phát xung
Từ đẳng thức của năng lượng phóng tia lửa điện (2.1) ta nhận thấy rằng dưới điều kiện bình thường thì khi Ue, Ie, te càng lớn thì năng lượng phóng tia lửa điện càng lớn Trong thực tế lượng hớt vật liệu có thể được xác định thông qua các thông số điều chỉnh
là Ie, ti, t0, và Uz
- Sự đồng đều khi hớt vật liệu: Khi xảy ra sự phóng điện, trên bề mặt phôi xuất hiện một “miệng núi lửa” rất nhỏ ở điểm A nào đó (hình 2.5) có khoảng cách gần nhất tới điện cực (vì thực tế là bề mặt phôi không bao giờ bằng phẳng tuyệt đối) Khi nguồn điện
áp được đóng ngắt một lần nữa, chu kỳ trên được lặp lại, tia lửa điện tiếp theo được sinh
ra tại vị trí B Cứ như vậy khi máy phát đóng ngắt liên tục thì sự phóng tia lửa điện sẽ sản sinh ra một loạt “miệng núi lửa” kế tiếp nhau trên toàn bề mặt điện cực Kết quả là vật liệu được hớt đi một cách đồng đều trên toàn bề mặt phôi, theo mô tả trên hình 2.5
- Bề mặt được gia công tia lửa điện sẽ hình thành do sự tạo nên các “miệng núi lửa” li ti đó Nếu năng lượng do phóng tia lửa điện được giảm một cách hợp lý thì các
“miệng núi lửa” sẽ có kích thước cực nhỏ và ta nhận được một bề mặt có độ bóng cao
Hình 2.5 Các miệng hố lõm được hình thành liên tiếp [18]