CHƯƠNG 3: CHẾ TẠO MÀNG ZnO:In,NQuy trình chế tạo mạng ZnO:In, N Ảnh hưởng của nhiệt độ đế... đế lên cấu trúc, tính chất điện và quang của màng Ảnh hưởng của tỷ lệ khí nitơ lên cấu trúc,
Trang 1TRƯỜNG ĐẠI HỌC CẦN THƠ KHOA KHOA HỌC TỰ NHIÊN
Trang 2TỔNG QUAN VỀ VẬT LIỆU ZnO
Trang 3Ứng dụng của vật liệu bán dẫn ZnO
Màng bán dẫn pha tạp loại p
Trang 4Tình hình nghiên cứu chế tạo bán dẫn ZnO-p
Dẫn điện loại p với điện trở suất
thấp
Dẫn điện loại p với điện trở
suất cao
Dẫn điện loại n, loại p với
điện trở suất cao
Dẫn điện loại n với
Trang 5Chế tạo màng bán dẫn đồng pha tạp loại p:
- Độ truyền qua của màng trên 85%.
- Điện trở suất thấp (~ 10 -2 Ω.cm), nồng độ hạt tải cao (~ 10 19 cm -3 ).
- Khảo sát tiếp xúc dị thể p-ZnO/Si-n.
Mục tiêu đề tài
Trang 61.1 Cấu trúc tinh thể ZnO
CHƯƠNG I: TỔNG QUAN VỀ VẬT LIỆU
ZnO
hexagonal wurtzite zinc blende rocksalt
Trang 7
CHƯƠNG I: TỔNG QUAN VỀ VẬT LIỆU ZnO
Sai hỏng Schottky và sai hỏng Frenkel.
Sai hỏng Schottky và sai hỏng Frenkel
1.2 Các loại sai hỏng điểm
Trang 8CHƯƠNG II: VẬT LIỆU ZnO PHA TẠP LOẠI P
2.1 ZnO pha tạp loại p
Mức năng lượng acceptor của các nguyên
tố sử dụng pha tạp tạo bán dẫn loại p
Mức năng lượng acceptor của các nguyên
tố sử dụng pha tạp tạo bán dẫn loại p
Trang 9CHƯƠNG I: TỔNG QUAN VỀ VẬT LIỆU ZnO
2.2 Đồng pha tạp acceptor – donor (A - D)
T Yamamoto đã đề xuất phương pháp đồng pha tạp:
Vùng dẫn
Vùng hóa trị
Mức đơn Mức đơn
donor (D) acceptor
(A)
Năng lượng
- Tăng cường tính hợp
thức của mức acceptor.
- Giảm mức năng lượng
acceptor, tăng mức năng
lượng donor trong vùng
Trang 10CHƯƠNG 3: CHẾ TẠO MÀNG ZnO:(In,N)
Quy trình chế tạo mạng ZnO:(In, N)
Ảnh hưởng của nhiệt độ đế
Trang 11CHƯƠNG 3: CHẾ TẠO MÀNG ZnO:(In,N)
Bột ZnO + In2O3
Trộn với keo PVA
Định hình bằng lực ép Bay hơi keo Dung kết
Trang 123.1 Quy trình chế tạo bia gốm ZnO:In
CHƯƠNG 3: CHẾ TẠO MÀNG ZnO:(In,N)
Chu trình nhiệt độ của quá trình dung kết.
Trang 13Bia gốm trước khi phún xạ Bia gốm sau khi phún xạ.
3.1 Quy trình chế tạo bia gốm ZnO:In
CHƯƠNG 3: CHẾ TẠO MÀNG ZnO:(In,N)
Trang 14CHƯƠNG 3: CHẾ TẠO MÀNG ZnO:(In, N)
3.2 Hệ phún xạ tạo màng
Sử dụng hệ magnetron không cân bằng:
- Tăng thông lượng ion và điện tử đến đế.
- Tăng năng lượng của các hạt đến đế
Sử dụng hệ magnetron không cân bằng:
- Tăng thông lượng ion và điện tử đến đế.
- Tăng năng lượng của các hạt đến đế
Cấu tạo hệ magnetron
Trang 15h x
Bố trí bia đế tránh tác động của ion âm
h=3.5 cm và x = 2.5 cm.
CHƯƠNG 3: CHẾ TẠO MÀNG ZnO:(In, N)
3.3 Bố trí bia đế
Trang 16đế lên cấu trúc, tính chất điện và quang của màng
Ảnh hưởng của tỷ lệ khí nitơ lên cấu trúc, tính chất điện và quang của màng
CHƯƠNG 3: CHẾ TẠO MÀNG ZnO:(In, N)
Trang 18ẢNH HƯỞNG NỒNG ĐỘ TẠP In
Tạp In (% khối lượng)
Cấu trúc của màng ZnO:(In, N):
Kích thước hạt (D) thay đổi theo tạp In
Kích thước hạt (D) thay đổi theo tạp In
Trang 19Mẫu Tạp In
(% wt)
Độ linh động (cm 2 /V.s)
Điện trở suất (Ω.cm)
Nồng độ hạt tải (cm -3 )
% Truyền qua
Tính chất điện của màng ZnO:(In, N):
Tính chất điện và quang của các màng ZnO:(In, N)theo tỷ lệ tạp In
Trang 20ẢNH HƯỞNG CỦA NHIỆT ĐỘ ĐẾ
Tính chất điện của màng ZnO:(In, N):
1.8.10 2
Tạp In %wt
Ảnh hưởng của tỷ lệ tạp In lên tính chất điện của các màng ZnO:(In, N)
Trang 21Bước sóng (nm)
ẢNH HƯỞNG NỒNG ĐỘ TẠP In
Tính chất quang của màng ZnO:(In, N)
Phổ truyền qua của các màng ZnO:(In, N) theo tỷ lệ tạp In
Trang 22ẢNH HƯỞNG NHIỆT ĐỘ ĐẾ
Tác giả: Lê Quẹo (2010).
Khảo sát ảnh hưởng của nồng độ tạp In lên tính chất quang của màng ZnO: In.
Phổ truyền qua của các màng màng ZnO:In với lượng tạp In thay đổi (1-4 %wt)
Trang 23Bước sóng (nm)
ẢNH HƯỞNG NỒNG ĐỘ TẠP In
Tính chất quang của màng ZnO:(In, N)
Phổ truyền qua của các màng ZnO:(In, N) theo tỷ lệ tạp In
Trang 24ẢNH HƯỞNG NỒNG ĐỘ TẠP In
Phương pháp EDS
Mẫu % at O % at Zn % at In % at Si % at Ca T124B 40.9 53.59 1.06 3.38 1.06
Trang 26ẢNH HƯỞNG NỒNG ĐỘ TẠP In
Phương pháp RBS Năng lượng (keV)
Kênh
Phổ truyền RBS các màng T127
Trang 27CHƯƠNG 3: CHẾ TẠO MÀNG ZnO:(In, N)
độ đế lên tính chất điện và quang của màng ZnO:(In, N).
Khảo sát ảnh hưởng của tỷ lệ khí N2 /(N2 + Ar) lên tính chất điện
và quang của màng ZnO:(In, N).
Trang 28Hình 4.13 Phổ nhiễu xạ tia X của các mẫu T123B, T127, T126B và T131
2 theta (độ)
Thông số khác P=3mTorr; I=0.35A; V=520V; Thời gian phún xạ
t=10-15 phút; bia IZO với 2% lượng tạp In ;
Trang 29Nhiệt độ đế ( 0 C)
Hình 4.14 Kích thước hạt thay đổi theo nhiệt độ đế.
ẢNH HƯỞNG NHIỆT ĐỘ ĐẾ
Kích thước hạt của các màng thay đổi theo nhiệt độ đế
Cấu trúc của màng ZnO:(In, N):
Trang 30Mẫu Nhiệt độ đế
( 0 C)
Độ linh động (cm2/ V.s)
Điện trở suất (Ω.cm)
Nồng độ hạt
tải (cm-3)
% Truyền qua
Trang 31ẢNH HƯỞNG NHIỆT ĐỘ ĐẾ
Tính chất điện của màng ZnO:(In, N):
Hình 4.15 Điện trở suất của các màng thay đổi theo nhiệt độ đế.
Bán dẫn loại p Bán dẫn loại n
Nhiệt độ đế ( 0 C)
Điện trở suất của các màng thay thổi theo nhiệt độ đế
Trang 33ρ= 0.0974 (Ω.cm) n=2.39.1019 (cm-3) Truyền qua trên 85%
Ảnh hưởng của N2 /(N2 + Ar) đến cấu trúc, tính chất điện và quang của màng
CHƯƠNG 3: CHẾ TẠO MÀNG ZnO:(In, N)
Trang 34Hình 4.17 Phổ nhiễu xạ tia X của mẫu T143, T130 và T127
2 theta (độ)
N2/(N2+Ar) 30% 40% 50%
Thông số khác P=3mTorr; I=0.35A; V=520V; thời gian phún xạ t=10 -
15 phút; nhiệt độ đế T=3000C ; bia IZO chứa 2% tạp In.
Phổ X-ray các mẫu T127, T130, T143
Cấu trúc của màng ZnO:(In, N):
Trang 35Hình 4.18 Phổ truyền qua của các mẫu T127, T130 và T127
Bước sóng (nm)
Phổ truyền qua các màng theo tỉ lệ khí N2/(N2+Ar)
Phổ truyền qua các màng theo tỉ lệ khí N2/(N2+Ar)
Tính chất quang của màng ZnO:(In, N)
Sự dịch chuyển bờ hấp thu có thể phụ thuộc vào ba yếu tố:
- Kích thước hạt : chỉ ảnh hưởng lớn khi màng có bề dày khoảng vài nm.
- Cấu trúc tinh thể.
- Mức acceptor N.
Trang 36ẢNH HƯỞNG TỈ LỆ KHÍ N2/(Ar+N2)
Bước sóng (nm)
Phổ phát quang của màng ZnO và màng ZnO:(In, N)
Tính chất quang của màng ZnO:(In, N)
Trang 37ẢNH HƯỞNG TỈ LỆ KHÍ N2/(Ar+N2)
Phổ phát quang của màng ZnO (a) và ZnO:(In, N) (b)
Jiming Bain khảo sát tính chất quang của màng ZnO:(In, N) và màng ZnO bằng phương pháp USP (ultrasonic spray pyrolysis)
Trang 38Mẫu N 2 /(N 2 +Ar)
(%)
Điện trở suất (cm 2 /V.s)
Độ linh động (Ω.cm)
Nồng độ hạt tải (cm -3 )
Độ truyền qua (%)
Trang 393.0.10 +19 2.5.10 +19 2.0.10 +19 1.5.10 +19 1.0.10 +19 0.5.10 +19
Tỷ lệ khí N 2 /(N 2 +Ar) (%)
Trang 40ρ= 0.0974 (Ω.cm) n=2.39.1019 (cm-3) Truyền qua trên 85%
Tỷ lệ khí tối
ưu N2 /(N2 + Ar)
là 40% , màng dẫn điện loại p với:
ρ=0.0299 Ω.cm n=2.87.10+19 cm-3
Độ truyền qua khoảng 85%
ĐIỀU KIỆN TỐI ƯU ĐỂ CHẾ TẠO MÀNG ZnO:(In, N)
Trang 41CHƯƠNG 3: CHẾ TẠO MÀNG ZnO:(In, N)
Tác giả Phương
Năm Công bố
Jiming
Bian UPS (In, N) Si(100)
3.96.10 19 cm -3 5.04.10 -3 Ω.cm 33.5 cm 2 /V s
2011
Một số kết quả chế tạo màng ZnO pha tạp loại p băng các phương pháp khác nhau
Trang 42KHẢO SÁT TIẾP XÚC p-ZnO:(In, N)/Si-n
Thông số khác P=3mTorr; I=0.35A; V=520V; Thời gian phún xạ
t=10 - 15 phút; Nhiệt độ đế T=300 0 C ; bia gốm IZO với 2% tạp In; Đế Si (100)
Đương đặc trưng I-V của mẫu T146-S và T148-S
n-Si P-ZnO:(In, N)
Trang 43Ag
n-Si P-ZnO:(In, N)
KHẢO SÁT TIẾP XÚC p-ZnO:(In, N)/Si-n
Đường đặc trưng I-V của mẫu T146-S Đường đặc trưng I-V của mẫu T148-S
Trang 44Dẫn điện loại n với
điện trở suất thấp
Dẫn điện loại p với điện
trở suất thấp
Dẫn điện loại p với
điện trở suất cao
Dẫn điện loại p với điện
Chế tạo tiếp xúc p-ZnO:(In, N)/Si-n
Chế tạo tiếp xúc p-ZnO:(In, N)/Si-nDẫn điện loại p rất tốt và ổn định
Dẫn điện loại p rất tốt và ổn định
Sự phát triển của màng ZnO pha tạp loại p
Trang 46HƯỚNG PHÁT TRIỂN
Nghiên cứu, chế tạo p-ZnO/ZnO-n
Nâng cao đặc tính chỉnh lưu p-ZnO/Si-n Ảnh hưởng của quá trình ủ nhiệt
Tính ổn định của màng theo thời gian Ảnh hưởng của công suất phún xạ.
Trang 471 Đào Anh Tuấn, Nguyễn Vũ Ty, Hồ Văn Bình, Dương Ái Phương,
Lê Văn Hiếu, Dương Anh Quang, Lê Vũ Tuấn Hùng, “ Ảnh hưởng của nồng độ tạp indium lên tính chất điên quang của màng bán dẫn loại n-ZnO:In và loại p-ZnO:(In, N)bằng phương pháp phún xạ magnetron DC”, Hội nghị Khoa học lần thứ 7, Đại
học Khoa học Tự nhiên, Đại học Quốc gia TP HCM – 2010
2 Hồ Văn Bình, Đào Anh Tuấn, Dương Ái Phương, Lê Văn Hiếu,
Dương Anh Quan, Lê Vũ Tuấn Hùng, “ Ảnh hưởng của nồng độ pha tạp indium lên tính chất điện quang của màng ZnO:(In, N) loại p chế tạo bằng phương pháp phún xạ magnetron DC”, Hội
nghị Vật lý toàn quốc lần thứ VII, Hà Nội – 8/11/2010.
DANH MỤC CÁC CÔNG TRÌNH
Trang 49PHẦN
PHỤ LỤC
Trang 50Đặc trưng I-V của màng ZnO:(In,N) phủ trên đế Si
P=3mTorr; I=0.35A; V=520V; Thời gian phún xạ t=15 phút;Nhiệt độ đế T=3000C ; 2% tạp In;N2/(N2+Ar)=50%
Đặc trưng I-V của màng ZnO:(In,N) phủ trên đế Si
P=3mTorr; I=0.35A; V=520V; Thời gian phún xạ t=15 phút;Nhiệt độ đế T=3000C ; 2% tạp In;N2/(N2+Ar)=50%
Trang 51Tác giả : Lê Quẹo khẳng định
“Nhiệt độ tăng – mức độ tinh thể màng ZnO:(In) tăng ”
Tác giả : Lê Quẹo khẳng định
“Nhiệt độ tăng – mức độ tinh thể màng ZnO:(In) tăng ”
Trang 52Các mẫu Q.125, Q.126, Q.127, Q.127B được tạo trong điều kiện nhiệt độ tương ứng 100OC, 150OC, 200OC, 250OC Tác giả Dương Anh Quang nghiên cứu màng ZnO:(In,N)
Các mẫu Q.125, Q.126, Q.127, Q.127B được tạo trong điều kiện nhiệt độ tương ứng 100OC, 150OC, 200OC, 250OC Tác giả Dương Anh Quang nghiên cứu màng ZnO:(In,N)