Thiết bị thu quang có vai trò quan trọng trong hệ thống thông tin quang.biến đổi tín hiệu quang thành tín hiệu điện Cơ sở của hiệu ứng quang điện là quá trình hấp thu ánh sáng trong chất bán dẫnHiệu ứng quang điệnKhi chiếu ánh sáng vào tấm bán dẫn này ,nếu năng lượng của photon đến (E=hv) lớn hơn năng lượng vùng cấm của bán dẫn ,photon bị hấp thụ sẽ tao thành 1 cặp điện tử lỗ trốngDưới tác động của điện trường đặt ngoài tấm bán dẫn các điện tử và lỗ trống này sẽ dịch chuyển qua tấm bán dẫn đi qua mạch ngoài và tạo thành dòng điện với công thức Ip=RpinR là đáp ứng của diode thu quang Pin công suất quang đến
Trang 1Chuyên Đề : Nghiên cứu về quá trình thu quang các loại diode
thu quang
Giảng viên: Trần Thủy Bình Nhóm thực hiện: Nhóm 8 lớp D11VT3 Thành viên:
Dương Văn Hai Nguyễn văn Quỳnh
BỘ MÔN CƠ SỞ THÔNG TIN QUANG
Trang 2Vị trí của diode thu quang
Sơ đồ hệ thống truyền tải thông tin quang
Trang 3Cơ chế thu quang ?
tín hiệu quang thành tín hiệu điện
Trang 4Hiệu ứng quang điện
Khi chiếu ánh sáng vào tấm bán dẫn này ,nếu năng lượng của photon đến (E=hv) lớn hơn năng lượng vùng cấm của bán dẫn ,photon bị hấp thụ sẽ tao thành 1 cặp điện
tử lỗ trống
Dưới tác động của điện trường đặt ngoài tấm bán dẫn các điện tử và lỗ trống này sẽ dịch chuyển qua tấm bán dẫn đi qua mạch ngoài và tạo thành dòng điện với công thức
Ip=Rpin
R là đáp ứng của diode thu quang
Pin công suất quang đến
Trang 5Quá trình biến đổi ánh sáng thành điện
Trang 6Các khái niệm cơ bản
Trang 7Cỏc khỏi niệm cơ bản
• Sự phụ thuộc η vào λ: liên quan đến hệ số hấp thụ
• Giả sử lớp bán dẫn bọc lớp chống phản xạ ⇒ công suất truyền qua lớp bán dẫn
• Công suất bị hấp thụ:
• Mỗi photon bị hấp thụ ⇒ cặp e-h tự do đ ợc tạo ra ⇒ Hiệu suất l ợng tử:
• ⇒ η= 0 khi α = 0 , η→ 1 khi αW >> 1
Trang 8Các khái niệm cơ bản
Trang 9Các loại Diode thu quang
Diode
Trang 10Diode thu quang PIN
•Có cấu trúc gồm lớp bán dẫn p và lớp bán dẫn n,giữa 2 lớp bán dẫn p-n này là lớp i
•Lớp I này thường là bán dẫn thuần hoặc pha tạp ít dày hơn hai lớp còn lại
Trang 11Cơ chế hoạt động của PIN
Cấu trúc và phân bố điện trường trong diode p-i-n khi có điện trường ngược đặt vào
Trang 12Cơ chế hoạt động
• Do lớp i có trở kháng cao nên phần lớn điện trương sẽ đặt vào lớp i
• Khi 1 photon có năng lượng lớn hơn hoặc bằng năng lượng vùng cấm của vật liệu bán dẫn đi tới,photon này sẽ bị hấp thụ và kích thích 1 điện tử từ vùng hóa trị nhảy lên vùng dẫn
• Quá trình này sẽ hình thành cặp điện tử lỗ trống tự do và chủ yếu được tao ra trong lớp i
• Dưới tác động của điện trường lớn bên trong lớp i các điện tử lỗ trống trôi ra mạch ngoài và tao thành điện vì thế lớp i còn gọi là vùng trôi
Trang 13Cơ chế hoạt động
Trang 14Các thông số của Diode PIN
việc thay đổi bề dày i
photodiode
hạt mang điện cần nhiều thời gian để dịch chuyển ra ngoài
Độ rộng của lớp i
Trang 15Vật liệu chế tạo
• Với các vật liệu bán đẫn có dải cấm không trực tiếp như Si và Ge để đạt được hiệu suất lượng tử hợp lý giá trị của W phải khoảng 20-50
• Vì vậy băng tần thường bị hạn chế do thời gian chuyển tiếp tương đối lớn
• Photodiode được chế tạo từ các vật liệu có dải cấm trực tiếp như InGaAs,W có thể nhỏ tới 3-5 mà vẫn đảm bảo được hiệu suất điện tử
• Thời gian chuyển tiếp của diode này giảm nên độ rộng băng tần được cải thiện
m
µ
m
µ
Trang 16Cấu trúc dị thể kép
• Lớp i ở giữa được kẹp giữa các lớp bán dẫn khác nhau p và n với dải cấm được chọn để ánh sáng chỉ hấp thụ trong lớp i
• Sử dụng InGaAs làm lớp giữa InP làm lớp p và n bao quanh
• Độ rộng vùng cấm InP là 1.35eV nên InP không hấp thụ ánh sáng có bước sóng > 0.92 µ m
• Lớp InGaAs ở giữa hấp thuk mạnh bước sóng trong dải 1.3-1.6 µ m
• Cấu trúc dị thể kép loại bỏ thành phần khuếch tán do vậy tăng tốc độ đáp ứng của photodiode
Trang 17Nâng cao tính năng của PIN
• - CÊu tróc dÞ thÓ kÐp ⇒ lo¹i bá dßng khuyÕch t¸n
Trang 18Các loại Diode thu quang
Diode
Trang 19Cấu tạo của diode APD
•Có cấu trúc gần giống với diode PIN
•APD có thêm lớp p được cấu tạo từ vật liệu loại p có điện trở
suất cao ,đóng vai trò vùng nhân.các cặp điện tử lỗ trống thứ cấp
được tạo ra ở vùng này nhờ hiện tượng ion hóa do va chạm
•Lớp i vẫn đóng vai trò vùng hấp thụ tương tự như trong PIN
Trang 21Nguyên lý hoạt động
• Quá trình này làm tăng dòng điện ngoài cũng như là tăng độ nhạy
của APD
• Điều kiện để sảy ra hiện tượng ion hóa điện trường trong vùng
nhân phải gần với mức đánh thủng zener,với Si ngưỡng khoảng 105
V/cm
• Các hạt tải điện thứ cấp qua miền điện trường lớn lại tăng tốc và
có đủ dộng năng để tạo ra các điện tử lỗ trống mới.đó chính là hiệu
ứng thác lũ
Vïng nh©n
Trang 22Cỏc tham số của diode APD
•Tốc độ sinh hạt tải mới đ ợc đặc tr ng bởi các hệ số ion hoá do va chạm αe, αh
•Trong đú được αe gọi là tốc độ ion húa do điện tử gõy ra
αh gọi là tốc độ ion húa do lỗ trụng gõy ra
•Hệ số khuếch đại dũng của APD cú thể tớnh toỏn được thụng qua hai phương trỡnh tốc độ liờn quan tới vựng nhõn như sau
h h e
e h
h h e
e e
i
i dx
di
i
i dx
di
α α
α α
Trang 23Các tham số của diode APD
• Hệ số khuếch đại dòng:
• Khi
• Khi
• APD tốt thường chọn hoặc
• M là 1 hàm của điện áp phân cực và phải được chọn hợp lý
• Bộ đáp ứng
• Sự phụ thuộc hệ số khuếch đại theo tần số
thời gian chuyển tiếp hiệu dụng
A e
A
A e
e
K d
K
K i
d i M
1 ( exp(
1
e
h A
0[ 1 ( ) ] )
MR
Trang 24Các tham số của APD
• Sự phụ thuộc hệ số khuếch đại theo tần số:
Trang 25Đặc tính của 1 số diode APD phổ biến
Bảng đặc tính củ 1 số diode APD phổ biến
Các photodiode APD làm từ Si có hệ số nhân cao với mức nhiễu thấp và cân bằng.nên loại này được sử dụng phổ biến trong các hệ thông thông tin sợi quang ở bước sóng 0.85 µm với tốc độ 100Mbits/s
Với bước sóng 1.3-1.6 µm sử dụng Apd làm từ Ge và InGaAs
Trang 26Một số cấu trúc APD
Một số ví dụ
Trang 27Một số cấu trúc APD
Trang 28Một số cấu trúc APD
Trang 29Tổng kết
Trang 30Cảm ơn Cô và các bạn đã lắng nghe